公开(公告)号：CN113514485A

公开(公告)日：2021-10-19

申请号：CN202110704200.5

申请日：2021-06-24

Applicant: 国合通用测试评价认证股份公司 ,  国标(北京)检验认证有限公司

Inventor： 韩小磊 ,  徐云培 ,  杜志伟 ,  李聪 ,  车聪 ,  付新 ,  李婷 ,  贾荣光 ,  何少卿 ,  彭永刚

IPC: G01N23/20008 ,  G01N1/28 ,  G01N1/32 ,  G01N1/34 ,  G01N1/36

Abstract: 本发明涉及一种钕铁硼电子背散射衍射分析样品的制备方法，属于扫描电镜样品制备技术领域。本发明通过金相镶样、机械研磨、机械抛光、振动抛光和样品清洗等步骤，制备出大区域高质量的样品。采用本方法制备的钕铁硼EBSD的样品，避免了样品在制样过程中被不均匀腐蚀或产生表面离子损伤，EBSD采集装置可以采集到高质量的菊池花样，从而获得样品准确的结构和取向信息；由于采用了镶样的方法制样，本方法对于样品的适用性较好，适用于从微米级粉体到厘米级块体的各种形态的NdFeB样品。本方法制样操作简单，可实施性强，成本低廉。

公开(公告)号：CN113514485B

公开(公告)日：2023-12-01

申请号：CN202110704200.5

申请日：2021-06-24

Applicant: 国合通用测试评价认证股份公司 ,  国标(北京)检验认证有限公司

Inventor： 韩小磊 ,  徐云培 ,  杜志伟 ,  李聪 ,  车聪 ,  付新 ,  李婷 ,  贾荣光 ,  何少卿 ,  彭永刚

IPC: G01N23/20008 ,  G01N1/28 ,  G01N1/32 ,  G01N1/34 ,  G01N1/36

Abstract: 本发明涉及一种钕铁硼电子背散射衍射分析样品的制备方法，属于扫描电镜样品制备技术领域。本发明通过金相镶样、机械研磨、机械抛光、振动抛光和样品清洗等步骤，制备出大区域高质量的样品。采用本方法制备的钕铁硼EBSD的样品，避免了样品在制样过程中被不均匀腐蚀或产生表面离子损伤，EBSD采集装置可以采集到高质量的菊池花样，从而获得样品准确的结构和取向信息；由于采用了镶样的方法制样，本方法对于样品的适用性较好，适用于从微米级粉体到厘米级块体的各种形态的NdFeB样品。本方法制样操作简单，可实施性强，成本低廉。

公开(公告)号：CN112444435A

公开(公告)日：2021-03-05

申请号：CN202011314203.X

申请日：2020-11-20

Applicant: 国标(北京)检验认证有限公司 ,  国合通用测试评价认证股份公司

Inventor： 付新 ,  贾荣光 ,  李聪 ,  于海燕 ,  何少卿 ,  杜志伟

IPC: G01N1/28 ,  G01N23/04 ,  G01N23/20008

Abstract: 本发明公开了属于透射电镜制样与分析技术领域的一种块体材料平面透射电镜样品的制备方法。具体步骤为1)将块体材料加工成薄片，固定于减薄用的环体表面；2)将薄片减薄至中心出现孔洞；3)在孔洞边缘观察粗定位，确定待分析制样的矩形选区；4)在分析制样的矩形选区表面沉积保护层；5)将镀过保护层的矩形选区三边切空，将截面修理平整；6)将纳米机械手与第四边的对边截面焊接后将第四边切空，矩形选区与薄片脱离；7)提取矩形选区焊接至FIB载网的柱体上；8)调整样品台使离子束垂直于矩形选区的截面入射，截面镀保护层，然后最终减薄，得到平面透射电镜样品。本发明是一种简单易行的定点制备块体材料平面透射电镜样品的方法。

公开(公告)号：CN111982640A

公开(公告)日：2020-11-24

申请号：CN201910431250.3

申请日：2019-05-22

Applicant: 国标(北京)检验认证有限公司

Inventor： 张丽民 ,  李聪 ,  何少卿 ,  杜志伟 ,  左玉婷

IPC: G01N1/32 ,  B24B1/00

Abstract: 本发明涉及一种用于EBSD测试的增材制造铝硅合金的制备方法，属于振动抛光技术领域。对铝硅合金镶嵌成的金相试样，首先采用由粗到细的砂纸，进行不同道次的水磨处理，然后采用金刚石抛光液进行抛光处理，将抛光后的试样清洗干净，表面光亮；将硅溶胶抛光液与去离子水以≥3:2的体积配比混合配成振动抛光液；将抛光液倒入振动抛光机中，将试样待测面浸没在抛光液中，进行振动抛光。本发明方法可用于对增材制造Al-Six-Mg样品的微观组织和织构的研究，相对于电解抛光和OPS机械抛光具有操作简单便捷，易控制，效果好等优点，适用于增材制造的硬质相和基体共存的两相或多相合金。