公开(公告)号：CN104334674A

公开(公告)日：2015-02-04

申请号：CN201380026721.3

申请日：2013-05-21

申请人： 嘉柏微电子材料股份公司

发明人： W.金 ,  J.帕克 ,  E.雷姆森

IPC分类号： C09K3/14 ,  H01L21/304

CPC分类号： C23F3/06 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1436 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/31053 ,  H01L21/32125

摘要： 本发明提供含有氧化锆颗粒、附着至所述氧化锆颗粒的改性剂、有机酸及水的化学-机械抛光组合物，以及使用这样的抛光组合物抛光基材的方法，及使用包含氧化锆颗粒、有机酸、氧化剂及水的抛光组合物抛光含有金属及基于氧化物的介电材料的基材的方法。

公开(公告)号：CN104334674B

公开(公告)日：2016-08-17

申请号：CN201380026721.3

申请日：2013-05-21

申请人： 嘉柏微电子材料股份公司

发明人： W.金 ,  J.帕克 ,  E.雷姆森

IPC分类号： C09K3/14 ,  H01L21/304

CPC分类号： C23F3/06 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1436 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/31053 ,  H01L21/32125

摘要： 本发明提供含有氧化锆颗粒、附着至所述氧化锆颗粒的改性剂、有机酸及水的化学-机械抛光组合物，以及使用这样的抛光组合物抛光基材的方法，及使用包含氧化锆颗粒、有机酸、氧化剂及水的抛光组合物抛光含有金属及基于氧化物的介电材料的基材的方法。