一种基于Mach-Zehnder的双光束元件表面粗糙度测量装置

    公开(公告)号:CN205482840U

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:CN201620002225.5

    申请日:2016-01-05

    Abstract: 一种基于Mach?Zehnder干涉的双光束元件表面粗糙度测量装置,涉及光干涉测量领域。它是为了解决传统单光源相移控制法测量元件表面粗糙度的测量范围小、不适用于台阶高度大于1/2波长材料表面的粗糙度测量的问题。本实用新型包括一号光源、二号光源、一号反射镜、一号分光镜、二号分光镜、透镜、一号双胶合透镜、二号反射镜、三号分光镜、二号透镜、二号双胶合透镜、待测材料、三号透镜、光阑、三号双胶合透镜、四号双胶合透镜、探测装置、微位移控制器、光强衰减器、待测元件固定台。其中,探测装置需与电脑相连,利用电脑显示探测装置拍摄的干涉图样,并结合相应算法可得到待测元件的表面粗糙度。本实用新型适用于精密光学干涉传感领域。

    基于多波长显微干涉的三维形貌检测装置

    公开(公告)号:CN206601106U

    公开(公告)日:2017-10-31

    申请号:CN201621281736.1

    申请日:2016-11-28

    Inventor: 沈涛 周燕

    Abstract: 本实用新型是一种基于多波长显微干涉的三维形貌检测装置,包括光源、一号滤光片、二号滤光片、三号滤光片、一号反射镜、二号反射镜、一号透镜、分光镜、一号显微物镜、待测元件、移相控制装置、二号显微物镜、参考元件、二号透镜、探测装置、步进电机、数据采集装置。利用数据采集装置显示探测装置拍摄的干涉图样,可得到待测元件的三维形貌。本实用新型适用于精密光学干涉测量领域。

    基于双波长干涉的微表面形貌测量装置

    公开(公告)号:CN205642308U

    公开(公告)日:2016-10-12

    申请号:CN201620294905.9

    申请日:2016-04-11

    Inventor: 沈涛 周燕

    Abstract: 基于双波长干涉的微表面形貌测量装置,涉及光干涉测量领域。它是为了解决传统单光源相移控制法测量元件微表面形貌的测量范围小,且由于一般都是通过机械系统如压电陶瓷PZT来产生相移导致系统不稳定、效率低等问题。本实用新型包括一号光源、二号光源、一号反射镜、一号分光镜、针孔滤波器、一号透镜、二号分光镜、待测光学元件、显微物镜、二号透镜、二号反射镜、三号反射镜、三号透镜、移相控制装置、四号透镜、三号分光镜、五号透镜、探测装置、数据采集装置。其中,探测装置需与数据采集装置相连,利用数据采集装置显示探测装置拍摄的干涉图样,可得到待测光学元件的微表面形貌。本实用新型适用于精密光学干涉测量领域。

    一种基于磁性液体的光纤磁场检测系统

    公开(公告)号:CN205484747U

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:CN201620002287.6

    申请日:2016-01-05

    Abstract: 本实用新型公开了一种基于磁性液体的光纤磁场检测系统,涉及光纤磁场传感领域。包括光源、传感器、磁场发生装置和光谱仪。在磁性液体的基础上,结合微纳光纤技术,采用单模?无芯?单模的结构,基于多模干涉原理,实现磁场检测,本实用新型采用无芯光纤实现多模干涉,灵敏度高,成本低,并且结构紧凑,稳定性高,有利于光纤磁场检测技术的实用化研究。本实用新型适用于高精度磁场检测。

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