-
公开(公告)号:CN115376716B
公开(公告)日:2023-06-16
申请号:CN202210967020.0
申请日:2022-08-11
Applicant: 哈尔滨工业大学 , 哈尔滨工业大学重庆研究院
Abstract: 本发明公开了一种屏蔽中子和γ射线的高熵陶瓷氧化物涂层及其制备方法,属于特种功能涂层领域。本发明要解决单一性和实验繁杂性的问题。本发明的涂层是由5%~35%氧化铪、5%~35%氧化钆、5%~35%氧化铒、5%~35%氧化钐、5%~35%氧化镧、5%~35%氧化铈、5%~35%氧化钛、5%~35%氧化锡中的五种氧化物粉末制备的;方法:是取氧化物粉末混合后球磨,真空干燥,然后铺垫在金属基底上,惰性气体保护下激光熔覆。本发明应用于航天军工、核化工、放射性医疗、核电站等领域。
-
公开(公告)号:CN115376716A
公开(公告)日:2022-11-22
申请号:CN202210967020.0
申请日:2022-08-11
Applicant: 哈尔滨工业大学 , 哈尔滨工业大学重庆研究院
Abstract: 本发明公开了一种屏蔽中子和γ射线的高熵陶瓷氧化物涂层及其制备方法,属于特种功能涂层领域。本发明要解决单一性和实验繁杂性的问题。本发明的涂层是由5%~35%氧化铪、5%~35%氧化钆、5%~35%氧化铒、5%~35%氧化钐、5%~35%氧化镧、5%~35%氧化铈、5%~35%氧化钛、5%~35%氧化锡中的五种氧化物粉末制备的;方法:是取氧化物粉末混合后球磨,真空干燥,然后铺垫在金属基底上,惰性气体保护下激光熔覆。本发明应用于航天军工、核化工、放射性医疗、核电站等领域。
-
公开(公告)号:CN115215666A
公开(公告)日:2022-10-21
申请号:CN202210963872.2
申请日:2022-08-11
Applicant: 哈尔滨工业大学 , 哈尔滨工业大学重庆研究院
IPC: C04B35/583 , C04B35/622 , C09D7/62 , C09D163/00 , C09D5/32
Abstract: 本发明公开了一种屏蔽中子和γ射线的氮化硼/高熵陶瓷氧化物和复合涂层及其制备方法,属于防辐射领域。本发明要解决单一材料较难实现中子和γ射线的同时屏蔽的问题。本发明的A2B2O7型高熵陶瓷粉末中元素A是Gd、Er、Sm、La、Ce、Eu、Dy中的五种或者五种以上的元素组成,元素B为Hf;高熵陶瓷粉末表面包裹有氮化硼构成复合填料,所述复合填料和树脂形成复合涂层。本发明应用于航天器、放射性医疗、核反应堆等领域。
-
-