公开(公告)号：CN110125464B

公开(公告)日：2020-06-23

申请号：CN201910385189.3

申请日：2019-05-09

Applicant: 哈尔滨工业大学

Inventor： 李跃峰 ,  潘旭东 ,  燕彬文 ,  王广林

IPC: B23C3/00

Abstract: 本发明提出一种基于双电刷采样法的电位计线性度同步连续修刻系统及修刻方法，所述系统包括平行放置的两个电刷A、B和修刻铣刀，所述两个电刷和修刻铣刀的位置在修刻的过程相对位置保持不变；所述两个电刷均保持采样区域位置与X方向垂直，所述两个电刷的采样区域位置之间的间隙称之为采样间隙，所述修刻铣刀与电刷A在Y方向保持一致；修刻过程进行时，两个电刷与修刻铣刀在X方向位置保持一致，碳膜沿X轴负方向匀速运动，同时修刻铣刀在Y方向依据两电刷采样状况做进给运动完成切削。本发明解决了在直线型碳膜电位计线性度修刻的过程中，现有离散修刻方式无法保证电位计整体线性度其效率低下，非同步离散修刻累计误差过大等问题。

公开(公告)号：CN110125464A

公开(公告)日：2019-08-16

申请号：CN201910385189.3

申请日：2019-05-09

Applicant: 哈尔滨工业大学

Inventor： 李跃峰 ,  潘旭东 ,  燕彬文 ,  王广林

IPC: B23C3/00

Abstract: 本发明提出一种基于双电刷采样法的电位计线性度同步连续修刻系统及修刻方法，所述系统包括平行放置的两个电刷A、B和修刻铣刀，所述两个电刷和修刻铣刀的位置在修刻的过程相对位置保持不变；所述两个电刷均保持采样区域位置与X方向垂直，所述两个电刷的采样区域位置之间的间隙称之为采样间隙，所述修刻铣刀与电刷A在Y方向保持一致；修刻过程进行时，两个电刷与修刻铣刀在X方向位置保持一致，碳膜沿X轴负方向匀速运动，同时修刻铣刀在Y方向依据两电刷采样状况做进给运动完成切削。本发明解决了在直线型碳膜电位计线性度修刻的过程中，现有离散修刻方式无法保证电位计整体线性度其效率低下，非同步离散修刻累计误差过大等问题。