公开(公告)号：CN102775625A

公开(公告)日：2012-11-14

申请号：CN201210264555.8

申请日：2012-07-27

Applicant: 哈尔滨工业大学

Inventor： 张兴文 ,  张欢喜 ,  吴振维 ,  杨旭可 ,  卢艳

IPC: C08J5/18 ,  C08L33/12 ,  C08K9/06 ,  C08K3/04 ,  C08K5/549 ,  C08F120/14

Abstract: 光限幅C60/POSS复合膜的制备方法，它涉及一种复合膜的制备方法。本发明为了解决C60作为光限幅材料溶解性较低，降低光学非线性的技术问题。本发明方法如下：一、制备POSS溶胶；二、中间体的合成；三、中间体与基体复合。本发明利用含有氨基的基团，将C60与POSS连接在一起，实现两者性能的叠加。合成后的产物，成膜性好，透明度高，可以用作在光学器件上覆膜。

公开(公告)号：CN102775625B

公开(公告)日：2014-04-09

申请号：CN201210264555.8

申请日：2012-07-27

Applicant: 哈尔滨工业大学

Inventor： 张兴文 ,  张欢喜 ,  吴振维 ,  杨旭可 ,  卢艳

IPC: C08J5/18 ,  C08L33/12 ,  C08K9/06 ,  C08K3/04 ,  C08K5/549 ,  C08F120/14

Abstract: 光限幅C60/POSS复合膜的制备方法，它涉及一种复合膜的制备方法。本发明为了解决C60作为光限幅材料溶解性较低，降低光学非线性的技术问题。本发明方法如下：一、制备POSS溶胶；二、中间体的合成；三、中间体与基体复合。本发明利用含有氨基的基团，将C60与POSS连接在一起，实现两者性能的叠加。合成后的产物，成膜性好，透明度高，可以用作在光学器件上覆膜。