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公开(公告)号:CN104400659B
公开(公告)日:2016-08-24
申请号:CN201410597723.4
申请日:2014-10-29
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: B24B57/02
Abstract: 独立控制外部循环的抛光液进给系统,它涉及一种数控抛光设备的抛光液进给系统,属于超精密光学加工设备领域。本发明的目的是解决现有数控抛光设备抛光液循环系统只能使用一种抛光液、且加工不同尺寸工件时抛光液用量不可控的局限性的问题。独立控制外部循环的抛光液进给系统由抛光液容器、抛光封闭室和气动搅拌装置组成。优点:一、实现了一台设备可以使用多种抛光液,克服了传统抛光设备“一台设备一种抛光液”的局限,提高了设备的加工能力;二、抛光液的用量可以根据被加工件的口径进行控制,有效降低了加工成本;三、本发明使用方便、稳定可控、造价低。本发明独立控制外部循环的抛光液进给系统主要用于为数控抛光设备提供抛光液。
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公开(公告)号:CN104400659A
公开(公告)日:2015-03-11
申请号:CN201410597723.4
申请日:2014-10-29
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: B24B57/02
CPC classification number: B24B57/02
Abstract: 独立控制外部循环的抛光液进给系统,它涉及一种数控抛光设备的抛光液进给系统,属于超精密光学加工设备领域。本发明的目的是解决现有数控抛光设备抛光液循环系统只能使用一种抛光液、且加工不同尺寸工件时抛光液用量不可控的局限性的问题。独立控制外部循环的抛光液进给系统由抛光液容器、抛光封闭室和气动搅拌装置组成。优点:一、实现了一台设备可以使用多种抛光液,克服了传统抛光设备“一台设备一种抛光液”的局限,提高了设备的加工能力;二、抛光液的用量可以根据被加工件的口径进行控制,有效降低了加工成本;三、本发明使用方便、稳定可控、造价低。本发明独立控制外部循环的抛光液进给系统主要用于为数控抛光设备提供抛光液。
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公开(公告)号:CN103144004B
公开(公告)日:2015-04-29
申请号:CN201310095057.X
申请日:2013-03-22
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 气囊抛光加工大口径光学元件的边缘精度控制方法,涉及一种气囊抛光元件加工过程中控制边缘精度的方法,属于光学加工领域。解决现有光学元件加工过程中为解决的“边缘效应”而造成破坏主面精度的风险大、成本高和效率低的问题。获取待加工元件对应材料的边缘区域去除函数;建立待加工元件边缘区域去除函数库;根据抛光路径的间隙m和抛光气囊的压缩量fi计算待加工元件边缘区域的宽度;提取相应的去除函数;设定边缘区域去除函数的驻留时间tn;对待加工元件进行边缘区域的误差轮廓预测计算,获得待加工元件边缘区域的面形误差;评估面形误差;获取待加工元件边缘位置响应的去除函数的驻留时间值,生成抛光文件,执行抛光过程。本发明可广泛应用于大口径观雪元件的边缘精度控制加工过程。
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公开(公告)号:CN103144004A
公开(公告)日:2013-06-12
申请号:CN201310095057.X
申请日:2013-03-22
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 气囊抛光加工大口径光学元件的边缘精度控制方法,涉及一种气囊抛光元件加工过程中控制边缘精度的方法,属于光学加工领域。解决现有光学元件加工过程中为解决的“边缘效应”而造成破坏主面精度的风险大、成本高和效率低的问题。获取待加工元件对应材料的边缘区域去除函数;建立待加工元件边缘区域去除函数库;根据抛光路径的间隙m和抛光气囊的压缩量fi计算待加工元件边缘区域的宽度;提取相应的去除函数;设定边缘区域去除函数的驻留时间tn;对待加工元件进行边缘区域的误差轮廓预测计算,获得待加工元件边缘区域的面形误差;评估面形误差;获取待加工元件边缘位置响应的去除函数的驻留时间值,生成抛光文件,执行抛光过程。本发明可广泛应用于大口径观雪元件的边缘精度控制加工过程。
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