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公开(公告)号：CN103128602A
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201210597906.7
申请日：2012-12-26
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种超精密加工用工件轴数控运动平台装置，属于研抛加工技术领域。为了解决利用现有的工件主轴系统存在结构复杂、体积庞大，并且对于高精度直线电机不能充分满足防尘、隔磁、防切削液要求，不适于在小口径非球曲面加工机床上应用的问题。XY精密移动平台置于机床底座的容腔内，工作台安装在XY精密移动平台的X轴直线单元上，容腔的四周设有盖板，工作台的边缘与盖板之间设有风琴防护罩，工件主轴通过工件主轴支架安装在工作台上，且工件主轴的轴线与X轴直线单元的运动轴线平行，回液槽设置在工作台上用于回收加工液；CCD对刀装置安装在盖板上。充分考虑了运动部件的安全防护，设置有防切屑、防尘和切削液防护装置，确保了直线运动单元的安全运行。
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公开(公告)号：CN103128602B
公开(公告)日：2015-01-28
申请号：CN201210597906.7
申请日：2012-12-26
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种超精密加工用工件轴数控运动平台装置，属于研抛加工技术领域。为了解决利用现有的工件主轴系统存在结构复杂、体积庞大，并且对于高精度直线电机不能充分满足防尘、隔磁、防切削液要求，不适于在小口径非球曲面加工机床上应用的问题。XY精密移动平台置于机床底座的容腔内，工作台安装在XY精密移动平台的X轴直线单元上，容腔的四周设有盖板，工作台的边缘与盖板之间设有风琴防护罩，工件主轴通过工件主轴支架安装在工作台上，且工件主轴的轴线与X轴直线单元的运动轴线平行，回液槽设置在工作台上用于回收加工液；CCD对刀装置安装在盖板上。充分考虑了运动部件的安全防护，设置有防切屑、防尘和切削液防护装置，确保了直线运动单元的安全运行。
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公开(公告)号：CN102909643B
公开(公告)日：2014-10-22
申请号：CN201210404586.9
申请日：2012-10-22
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 磁场分布均匀化的小直径永磁体球形抛光头及该永磁体球形抛光头结构参数优化设计方法，涉及抛光头及其结构参数优化方法。本发明解决了现有小直径永磁体球形抛光头的磁场分布不均匀、磁流变液吸附厚度、强度不一致的问题。本发明所述的抛光头是对称结构，由球头和圆柱体的球杆组成，球杆末端中心带有装配孔，球杆的首端固定有球头，球头是球体的一部分，在球杆与球头的连接处的外表面上设置有环形凹槽。本发明所述的优化方法是根据抛光头的三维仿真模型及其抛光时的工作环境采用仿真软件仿真进行磁场有限元分析，获得抛光头周围的磁场强度分布均匀误差，当所述误差小于5%时完成优化。本发明适用于对小曲率半径、异形面的磁流变抛光加工。
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公开(公告)号：CN102909643A
公开(公告)日：2013-02-06
申请号：CN201210404586.9
申请日：2012-10-22
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 磁场分布均匀化的小直径永磁体球形抛光头及该永磁体球形抛光头结构参数优化设计方法，涉及抛光头及其结构参数优化方法。本发明解决了现有小直径永磁体球形抛光头的磁场分布不均匀、磁流变液吸附厚度、强度不一致的问题。本发明所述的抛光头是对称结构，由球头和圆柱体的球杆组成，球杆末端中心带有装配孔，球杆的首端固定有球头，球头是球体的一部分，在球杆与球头的连接处的外表面上设置有环形凹槽。本发明所述的优化方法是根据抛光头的三维仿真模型及其抛光时的工作环境采用仿真软件仿真进行磁场有限元分析，获得抛光头周围的磁场强度分布均匀误差，当所述误差小于5%时完成优化。本发明适用于对小曲率半径、异形面的磁流变抛光加工。
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