高太阳吸收率高发射率微弧氧化涂层制备方法

    公开(公告)号:CN101139729B

    公开(公告)日:2010-09-15

    申请号:CN200710072414.5

    申请日:2007-06-27

    Abstract: 高太阳吸收率高发射率微弧氧化涂层制备方法,本发明解决了目前铝合金涂层的太阳吸收率、发射率、结合力等达不到航空、航天、装饰等领域要求的问题。本发明的步骤如下:将清洗后的铝合金置于不锈钢电解槽中作为阳极,不锈钢电解槽作为阴极,采用脉冲微弧氧化电源供电,电流密度控制在0.5~30A/dm2,正向电压240~1000V,电源频率50~3000Hz,占空比10~50%,通过冷却循环水控制电解液的温度不超过30℃,电解液的pH值控制在8~12之间,微弧氧化反应5~180min,即得到陶瓷涂层。本发明方法降低了成本、提高了产品性能。本发明在铝合金表面获太阳吸收率大于0.90,发射率大于0.80的高吸收高发射陶瓷涂层,同时这种涂层具有高硬度(大于1000Hv)、与基体结合力好等优点。

    高太阳吸收率高发射率微弧氧化涂层制备方法

    公开(公告)号:CN101139729A

    公开(公告)日:2008-03-12

    申请号:CN200710072414.5

    申请日:2007-06-27

    Abstract: 高太阳吸收率高发射率微弧氧化涂层制备方法,本发明解决了目前铝合金涂层的太阳吸收率、发射率、结合力等达不到航空、航天、装饰等领域要求的问题。本发明的步骤如下:将清洗后的铝合金置于不锈钢电解槽中作为阳极,不锈钢电解槽作为阴极,采用脉冲微弧氧化电源供电,电流密度控制在0.5~30A/dm2,正向电压240~1000V,电源频率50~3000Hz,占空比10~50%,通过冷却循环水控制电解液的温度不超过30℃,电解液的pH值控制在8~12之间,微弧氧化反应5~180min,即得到陶瓷涂层。本发明方法降低了成本、提高了产品性能。本发明在铝合金表面获太阳吸收率大于0.90,发射率大于0.80的高吸收高发射陶瓷涂层,同时这种涂层具有高硬度(大于1000Hv)、与基体结合力好等优点。

    一种具有良好记忆效应和加工性能的高温记忆合金

    公开(公告)号:CN105316526B

    公开(公告)日:2017-06-13

    申请号:CN201510894952.7

    申请日:2015-12-07

    Abstract: 一种具有良好记忆效应和加工性能的高温记忆合金,本发明涉及高温记忆合金及其制备方法。本发明要解决现有的高温记忆合金加工性能不足、成本昂贵的问题。方法:一、称取;二、制备中间合金铸锭;三、制备Ti‑Ta‑Zr‑In合金铸锭;四、制备匀质化处理后的铸锭;五、制备Ti‑Ta‑Zr‑In合金薄板;六、退火处理。本发明用于具有良好记忆效应和加工性能的高温记忆合金及其制备。

Patent Agency Ranking