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公开(公告)号：CN113357109B
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202110734035.8
申请日：2021-06-30
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: F03H1/00
Abstract: 本发明提供了一种射频离子推力器点火装置，涉及射频离子推力器技术领域，该装置包括金属进气管、主电离室、副电离室、主线圈、附加线圈和屏栅极。工作状态下，屏栅极接入直流高压电源，同时缠绕在主电离室上的主线圈接入射频功率源，缠绕在副电离室上的附加线圈感应出正弦高压，因金属进气管与附加线圈的一端等电位连接，故屏栅极与金属进气管间的强电场有一半几率被加强；被加强后的电场击穿更多工质成为等离子体，高密度的等离子体扩散至主电离室与未电离的工质加速碰撞，使主电离室内的工质完全电离，降低了主线圈上的射频功率源的输入功率，实现低功率点火操作。
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公开(公告)号：CN113357109A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202110734035.8
申请日：2021-06-30
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: F03H1/00
Abstract: 本发明提供了一种射频离子推力器点火装置，涉及射频离子推力器技术领域，该装置包括金属进气管、主电离室、副电离室、主线圈、附加线圈和屏栅极。工作状态下，屏栅极接入直流高压电源，同时缠绕在主电离室上的主线圈接入射频功率源，缠绕在副电离室上的附加线圈感应出正弦高压，因金属进气管与附加线圈的一端等电位连接，故屏栅极与金属进气管间的强电场有一半几率被加强；被加强后的电场击穿更多工质成为等离子体，高密度的等离子体扩散至主电离室与未电离的工质加速碰撞，使主电离室内的工质完全电离，降低了主线圈上的射频功率源的输入功率，实现低功率点火操作。
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公开(公告)号：CN113404658B
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN202110735438.4
申请日：2021-06-30
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: F03H1/00
Abstract: 本发明涉及一种自中和射频离子推力器，其中，主电离室的输出端连接离子引出系统；副电离室的输入端与主电离室的侧壁连通，副电离室的输出端连接电子引出系统；离子引出系统和电子引出系统均与直流源单元连接；离子引出系统，用于将主电离室中的离子引出并加速喷出产生推力；电子引出系统，用于将副电离室中的电子引出，从而实现与离子引出系统引出的离子中和。显然，本发明通过在主电离室的侧面设置副电离室，主电离室和副电离室共用一套射频功率源和阻抗匹配网络，电子引出系统和离子引出系统共用一个直流高压源，射频离子推力器能够仅使用一套射频功率源、阻抗匹配网络和直流电压源完成推力的产生和离子的中和，大大简化了推力器的结构。
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公开(公告)号：CN113404658A
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN202110735438.4
申请日：2021-06-30
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: F03H1/00
Abstract: 本发明涉及一种自中和射频离子推力器，其中，主电离室的输出端连接离子引出系统；副电离室的输入端与主电离室的侧壁连通，副电离室的输出端连接电子引出系统；离子引出系统和电子引出系统均与直流源单元连接；离子引出系统，用于将主电离室中的离子引出并加速喷出产生推力；电子引出系统，用于将副电离室中的电子引出，从而实现与离子引出系统引出的离子中和。显然，本发明通过在主电离室的侧面设置副电离室，主电离室和副电离室共用一套射频功率源和阻抗匹配网络，电子引出系统和离子引出系统共用一个直流高压源，射频离子推力器能够仅使用一套射频功率源、阻抗匹配网络和直流电压源完成推力的产生和离子的中和，大大简化了推力器的结构。
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