公开(公告)号：CN102322078A

公开(公告)日：2012-01-18

申请号：CN201110163373.7

申请日：2011-06-17

Applicant: 同济大学

Inventor： 丁春林 ,  舒进 ,  杨新安 ,  王东方 ,  叶丹 ,  朱恺

IPC: E02D33/00

Abstract: 本发明涉及一种承压水基坑开挖与降压耦合效应的突涌破坏计算处理方法，包括以下步骤：1）选取基坑降压渗流场和开挖应力场模型计算范围；2）定义计算范围内坑周土材料属性；3）用有限元程序创建几何实体模型，进行单元离散化；4）设定基坑降压渗流场和开挖应力场模型边界条件；5）对基坑模型进行开挖与降压耦合效应的有限元模拟计算；6）根据计算结果得出承压水基坑坑周土突涌塑性破坏分布图，判断基坑是否突涌。与现有技术相比，本发明考虑了基坑开挖效应和降压渗流效应的耦合作用，考虑了坑周土抗剪强度、非均质性和弹塑性，弥补了现有基坑突涌评判方法的不足，提高了基坑突涌破坏判断的准确性和可靠性。

公开(公告)号：CN102322078B

公开(公告)日：2013-07-17

申请号：CN201110163373.7

申请日：2011-06-17

Applicant: 同济大学

Inventor： 丁春林 ,  舒进 ,  杨新安 ,  王东方 ,  叶丹 ,  朱恺

IPC: E02D33/00

Abstract: 本发明涉及一种承压水基坑开挖与降压耦合效应的突涌破坏计算处理方法，包括以下步骤：1）选取基坑降压渗流场和开挖应力场模型计算范围；2）定义计算范围内坑周土材料属性；3）用有限元程序创建几何实体模型，进行单元离散化；4）设定基坑降压渗流场和开挖应力场模型边界条件；5）对基坑模型进行开挖与降压耦合效应的有限元模拟计算；6）根据计算结果得出承压水基坑坑周土突涌塑性破坏分布图，判断基坑是否突涌。与现有技术相比，本发明考虑了基坑开挖效应和降压渗流效应的耦合作用，考虑了坑周土抗剪强度、非均质性和弹塑性，弥补了现有基坑突涌评判方法的不足，提高了基坑突涌破坏判断的准确性和可靠性。

公开(公告)号：CN101845815A

公开(公告)日：2010-09-29

申请号：CN201010189085.4

申请日：2010-05-31

Applicant: 同济大学

Inventor： 丁春林 ,  王东方 ,  杨新安 ,  赵军

IPC: E02D17/02

Abstract: 本发明涉及一种软土地层含承压水基坑突涌塑性破坏计算处理方法，包括以下步骤：1)选取模型计算范围；2)定义计算范围内坑底土材料属性；3)用有限元程序创建几何实体模型，进行单元离散化；4)设定模型边界条件；5)对模型施加承压水头荷载，并进行求解；6)根据计算结果得出承压水基坑坑底土突涌塑性破坏分布图，判断基坑是否突涌。与现有技术相比，本发明考虑了承压水基坑坑底土抗剪强度、非均质性和弹塑性，且有适用范围广、计算简单、计算参数容易获取等优点。

公开(公告)号：CN112059813A

公开(公告)日：2020-12-11

申请号：CN202010945054.0

申请日：2020-09-10

Applicant: 同济大学

Inventor： 王东方 ,  王昆 ,  余俊 ,  王占山

IPC: B24B13/00 ,  B24B13/005 ,  B24B47/20

Abstract: 本发明涉及一种柱状二次曲线组合曲面超光滑保形抛光装置，包括床身和设置在床身上的主轴单元、机床框架、尾座单元，所述机床框架上吊装水平运动单元，所述水平运动单元上设有抛光单元；所述主轴单元和尾座单元的回转轴线共线，所述主轴单元和尾座单元通过顶尖夹紧圆柱状工件及其工装，且使得工件的回转轴线和主轴单元的回转轴线同心，所述抛光单元位于工件及其工装的上方。与现有技术相比，本发明抛光单元中的气缸可以实时调节抛光垫的压力，保证了抛光过程去除函数的相对稳定性；通过主轴运动单元的回转运动和抛光垫的往复直线运动，实现圆柱状二次曲线组合曲面的超光滑保形抛光工艺。

公开(公告)号：CN112059813B

公开(公告)日：2021-12-31

申请号：CN202010945054.0

申请日：2020-09-10

Applicant: 同济大学

Inventor： 王东方 ,  王昆 ,  余俊 ,  王占山

IPC: B24B13/00 ,  B24B13/005 ,  B24B47/20

Abstract: 本发明涉及一种柱状二次曲线组合曲面超光滑保形抛光装置，包括床身和设置在床身上的主轴单元、机床框架、尾座单元，所述机床框架上吊装水平运动单元，所述水平运动单元上设有抛光单元；所述主轴单元和尾座单元的回转轴线共线，所述主轴单元和尾座单元通过顶尖夹紧圆柱状工件及其工装，且使得工件的回转轴线和主轴单元的回转轴线同心，所述抛光单元位于工件及其工装的上方。与现有技术相比，本发明抛光单元中的气缸可以实时调节抛光垫的压力，保证了抛光过程去除函数的相对稳定性；通过主轴运动单元的回转运动和抛光垫的往复直线运动，实现圆柱状二次曲线组合曲面的超光滑保形抛光工艺。