一种六角片状的五氧化二钒纳米材料及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN105384191A

    公开(公告)日:2016-03-09

    申请号:CN201510646652.7

    申请日:2015-10-08

    申请人: 同济大学

    IPC分类号: C01G31/02 B82Y40/00 H01M4/48

    摘要: 本发明涉及一种六角片状的五氧化二钒纳米材料及其制备方法和应用,所述的五氧化二钒纳米材料呈六角片状结构,每个角片的厚度为100~300nm左右,所述的五氧化二钒纳米材料首先以五氧化二钒粉末、苯甲醇和异丙醇为原料通过回流冷凝和蒸馏浓缩制备出氧化钒溶胶,然后将溶胶与乙醇和去离子水混合经水热反应和后烧结处理制备得到,制备得到的五氧化二钒纳米材料特别适用于锂离子电池的阴极材料。与现有技术相比,本发明具有工艺简单、制备成本低、电化学性能优异等优点。

    一种含等离子体的气相沉积装置及其应用

    公开(公告)号:CN111850520A

    公开(公告)日:2020-10-30

    申请号:CN202010558433.4

    申请日:2020-06-18

    申请人: 同济大学

    摘要: 本发明涉及一种含等离子体的气相沉积装置及其应用,包括依次连接的进气系统、反应系统和废气处理系统;所述的进气系统向反应腔原位供应反应气体,进行气相沉积;所述反应系统中的反应腔内设有等离子体发生器和反应腔加热器,通过等离子控制器和温度控制显示器分别控制和实时监控等离子体发生器和反应腔内温度,对基底进行等离子体处理和气相沉积过程。与现有技术相比,本发明在较为简单的条件下利用等离子体技术对材料表面处理,并进行可控的气相沉积反应过程,满足了多层次制备新复合材料的技术需求;操作简单、反应条件温和、装置结构简单并且绿色环保。

    一种气相沉积装置的使用方法

    公开(公告)号:CN105695956B

    公开(公告)日:2018-08-24

    申请号:CN201610191935.1

    申请日:2016-03-30

    申请人: 同济大学

    IPC分类号: C23C16/448 C23C16/44

    摘要: 本发明涉及一种气相沉积装置,包括反应腔体(1),还包括反应物注入组件、真空减压组件和温度控制组件,所述的反应物注入组件和真空减压组件均与反应腔体(1)连通;将基底物(2)放入反应腔体(1)中,用真空减压组件将反应腔体(1)抽真空后,关闭真空减压组件,通过反应物注入组件将反应物注入反应腔体(1)中,通过温度控制组件控制反应腔体(1)内的温度,使得反应物气化并沉积在基底物(2)表面。与现有技术相比,本发明具有操作方便、气相沉积过程可控、结构简单、成本低廉并且适合大规模商业化应用等优点。

    一种具有均匀核壳结构的复合材料的低成本制备方法

    公开(公告)号:CN105688762B

    公开(公告)日:2018-07-24

    申请号:CN201610191962.9

    申请日:2016-03-30

    申请人: 同济大学

    摘要: 本发明涉及一种具有均匀核壳结构的复合材料的低成本制备方法,该方法包括以下步骤:(1)将基底材料置于反应腔体中,抽真空使反应腔体内呈真空状态;(2)将催化剂注入反应腔体中,调控温度使催化剂气化,沉积在基底材料的表面;(3)将反应腔体中多余的催化剂除去,再次抽真空使反应腔体内呈真空状态;(4)将包覆材料注入反应腔体中,调控温度使包覆材料气化,在催化剂的作用下与基底材料发生化学反应,包覆在基底材料的表面,形成核壳结构坯料;(5)将坯料取出,20~160℃真空干燥0.5~24h,去除坯料上残留的催化剂和包覆材料,得到具有均匀核壳结构的复合材料。与现有技术相比,本发明具有步骤简单、容易实现等优点。

    一种六角片状的五氧化二钒纳米材料及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN105384191B

    公开(公告)日:2016-11-30

    申请号:CN201510646652.7

    申请日:2015-10-08

    申请人: 同济大学

    IPC分类号: H01M4/48

    摘要: 本发明涉及一种六角片状的五氧化二钒纳米材料及其制备方法和应用,所述的五氧化二钒纳米材料呈六角片状结构,每个角片的厚度为100~300nm左右,所述的五氧化二钒纳米材料首先以五氧化二钒粉末、苯甲醇和异丙醇为原料通过回流冷凝和蒸馏浓缩制备出氧化钒溶胶,然后将溶胶与乙醇和去离子水混合经水热反应和后烧结处理制备得到,制备得到的五氧化二钒纳米材料特别适用于锂离子电池的阴极材料。与现有技术相比,本发明具有工艺简单、制备成本低、电化学性能优异等优点。

    一种气相沉积装置
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105695956A

    公开(公告)日:2016-06-22

    申请号:CN201610191935.1

    申请日:2016-03-30

    申请人: 同济大学

    IPC分类号: C23C16/448 C23C16/44

    CPC分类号: C23C16/4485 C23C16/44

    摘要: 本发明涉及一种气相沉积装置,包括反应腔体(1),还包括反应物注入组件、真空减压组件和温度控制组件,所述的反应物注入组件和真空减压组件均与反应腔体(1)连通;将基底物(2)放入反应腔体(1)中,用真空减压组件将反应腔体(1)抽真空后,关闭真空减压组件,通过反应物注入组件将反应物注入反应腔体(1)中,通过温度控制组件控制反应腔体(1)内的温度,使得反应物气化并沉积在基底物(2)表面。与现有技术相比,本发明具有操作方便、气相沉积过程可控、结构简单、成本低廉并且适合大规模商业化应用等优点。