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公开(公告)号:CN101235506A
公开(公告)日:2008-08-06
申请号:CN200710037117.7
申请日:2007-02-02
申请人: 同济大学
摘要: 一种新型的纳米磁性薄膜的制备工艺,它可以精确的控制纳米磁性薄膜的沉积速度,从而控制薄膜的厚度且尺寸分布比较均匀。同时,新工艺可以降低不同成分的原子在溅射过程中的选择性,延长靶材的使用寿命。最重要的是,新工艺可以选用新型的靶材,节约材料,简化工艺,对生产特别是小批量的科学研究有利。
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公开(公告)号:CN101235506A
公开(公告)日:2008-08-06
申请号:CN200710037117.7
申请日:2007-02-02
申请人: 同济大学
摘要: 一种新型的纳米磁性薄膜的制备工艺,它可以精确的控制纳米磁性薄膜的沉积速度,从而控制薄膜的厚度且尺寸分布比较均匀。同时,新工艺可以降低不同成分的原子在溅射过程中的选择性,延长靶材的使用寿命。最重要的是,新工艺可以选用新型的靶材,节约材料,简化工艺,对生产特别是小批量的科学研究有利。