可直接用于电化学沉积的有序多孔氧化铝模板及制备方法

    公开(公告)号:CN101838835A

    公开(公告)日:2010-09-22

    申请号:CN201010135097.9

    申请日:2010-03-30

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明公开了一种可直接用于电化学沉积的有序多孔氧化铝模板及制备方法,其阻挡层厚度为200-300nm,未被氧化的铝基体可直接作为电化学沉积电极,无须再进行去阻挡层和镀电极过程。其制备方法,包括:将铝箔进行退火以消除剪切铝箔过程所产生的应力;清洗退火后的铝箔去除其表面的污渍;去除铝箔上的自然氧化层;将铝箔电解抛光;将抛光后的铝箔进行一次阳极氧化;将一次氧化后的铝箔去除一次氧化膜;将去除一次氧化膜后的铝箔进行二次阳极氧化。本发明方法的模板制备成功率高,不易损坏;不仅简化了纳米线/有序多孔氧化铝复合材料的制备流程,还有利于该复合材料的性能研究。

    制备有序多孔氧化铝模板的方法及装置

    公开(公告)号:CN101624717A

    公开(公告)日:2010-01-13

    申请号:CN200910055449.7

    申请日:2009-07-28

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 一种制备有序多孔氧化铝模板的方法及装置,可低成本规模化制备有序多孔氧化铝模板。该方法包括:1)去除铝片上的污渍及氧化膜,并抛光;2)用前述铝片作为阳极,采用贱金属作为阴极,采用两次阳极氧化法制备纳米有序多孔氧化铝模板。阴极、阳极均为多个,采用导线分别并联控制对铝片进行阳极氧化。该装置为长方体槽结构,两侧设有若干对小孔,用于安置与电源连接的阴极和阳极,槽内容纳电解液。阳极氧化过程中可采用磁力搅拌器等搅拌设备对电解液进行搅拌。本发明可以低成本、大规模、快速制备有序度高、孔径可调的纳米孔道阵列。

    可直接用于电化学沉积的有序多孔氧化铝模板及制备方法

    公开(公告)号:CN101851771A

    公开(公告)日:2010-10-06

    申请号:CN201010199916.6

    申请日:2010-06-11

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明公开了一种可直接用于电化学沉积的有序多孔氧化铝模板及制备方法,其阻挡层厚度为100-300nm,未被氧化的铝基体可直接作为电化学沉积电极,无须再进行去阻挡层和镀电极过程。其制备方法,包括:将铝箔进行退火以消除剪切铝箔过程所产生的应力;清洗退火后的铝箔去除其表面的污渍;去除铝箔上的自然氧化层;将铝箔电解抛光;将抛光后的铝箔进行一次阳极氧化;将一次氧化后的铝箔去除一次氧化膜;将去除一次氧化膜后的铝箔进行二次阳极氧化。本发明方法的模板制备成功率高,不易损坏;不仅简化了纳米线/有序多孔氧化铝复合材料的制备流程,还有利于该复合材料的性能研究。

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