公开(公告)号：CN101320209A

公开(公告)日：2008-12-10

申请号：CN200810050922.8

申请日：2008-07-07

Applicant: 吉林大学

Inventor： 吕男 ,  黄春玉 ,  董彬 ,  高立国 ,  杨秉杰 ,  齐殿鹏 ,  田露 ,  吴琼 ,  迟力峰

IPC: G03F7/00 ,  B82B3/00 ,  C08G73/02 ,  C08G73/06 ,  C08G61/12

Abstract: 本发明属于功能材料表面图案构筑技术，具体涉及一种表面导电聚合物图案的制备方法，其是利用旋涂或氧化聚合的方法在基底表面形成导电聚合物的薄膜，然后通过纳米压印将旋涂在导电聚合物薄膜上的聚合物阻挡层压印出图案，以该图案为掩膜进行均向刻蚀，从而在基底表面制备出结构尺寸可控的表面导电聚合物图案。该方法成功解决了高密度和高产量难以并行的难题，在此基础上，表面导电聚合物图案的分辨率较使用的模板提高数倍。具有成本低、效率高、技术成熟的特点，符合工业化标准，可以用于制造光学、电学、磁学、生物学器件，也可以用于传感器和可充放电电池的生产等，显著提高了导电聚合物等功能材料的应用能力。