公开(公告)号：CN114411092A

公开(公告)日：2022-04-29

申请号：CN202111392371.5

申请日：2021-11-23

Applicant: 吉林大学

Inventor： 胡超权 ,  潘佩琨 ,  赵琳 ,  李端凡 ,  郑伟涛

IPC: C23C14/06 ,  C23C14/35 ,  G02B1/00

Abstract: 本发明属于功能薄膜材料技术领域，具体涉及一种硬质低折射率的损耗材料及其制备方法，该损耗材料是具有W置换Ti的、岩盐结构的Ti1‑xWxC固溶体薄膜，薄膜厚度为12‑20nm；制备方法包括以下步骤：将纯TiC靶、纯W靶安装在磁控射频溅射靶中，采用半导体为衬底；抽真空，通入氩气；控制纯TiC靶、纯W靶的溅射功率，在衬底上沉积得到的固溶体薄膜即为硬质低折射率的损耗材料。本发明提供的损耗材料具有高消光系数、低折射率和高硬度的优点，从根本上解决了传统损耗材料的折射率高和硬度低的问题，满足下一代高稳定性的光通讯分光器件的发展需求。

公开(公告)号：CN114411092B

公开(公告)日：2023-07-25

申请号：CN202111392371.5

申请日：2021-11-23

Applicant: 吉林大学

Inventor： 胡超权 ,  潘佩琨 ,  赵琳 ,  李端凡 ,  郑伟涛

IPC: C23C14/06 ,  C23C14/35 ,  G02B1/00

Abstract: 本发明属于功能薄膜材料技术领域，具体涉及一种硬质低折射率的损耗材料及其制备方法，该损耗材料是具有W置换Ti的、岩盐结构的Ti1‑xWxC固溶体薄膜，薄膜厚度为12‑20nm；制备方法包括以下步骤：将纯TiC靶、纯W靶安装在磁控射频溅射靶中，采用半导体为衬底；抽真空，通入氩气；控制纯TiC靶、纯W靶的溅射功率，在衬底上沉积得到的固溶体薄膜即为硬质低折射率的损耗材料。本发明提供的损耗材料具有高消光系数、低折射率和高硬度的优点，从根本上解决了传统损耗材料的折射率高和硬度低的问题，满足下一代高稳定性的光通讯分光器件的发展需求。