一种2.5MV硅整流堆高压平台的加速器离子源供电传输系统

    公开(公告)号:CN119729989A

    公开(公告)日:2025-03-28

    申请号:CN202411883271.6

    申请日:2024-12-19

    Abstract: 本发明公开了一种2.5MV硅整流堆高压平台的加速器离子源供电传输系统,包括硅整流堆高压电源、高压引线传输装置、发电机供电装置以及离子源装置、加速管、靶材,所述硅整流堆高压电源包括整流硅堆、硅堆阳极接线端、硅堆阴极接线端,所述高压引线传输装置包括硅堆阴极引线柱、高压引线柱,所述发电机供电装置包括发电机、发电机不锈钢罩、稳压器、隔离变压器、绝缘转轴、电动机,所述离子源装置包括离子源不锈钢罩、引出极直流电源、抑制极直流电源、射频电源、匹配器、引出电极。采用该种供电传输系统,结构紧凑且可为工作在2.5MV高压平台上的加速器离子源各设备提供隔离供电,极大降低隔离供电成本。

    一种应用于正压环境下的射频耦合等离子体源

    公开(公告)号:CN119835849A

    公开(公告)日:2025-04-15

    申请号:CN202510134990.6

    申请日:2025-02-07

    Abstract: 本发明涉及等离子体源技术领域,尤其涉及一种应用于正压环境下的射频耦合等离子体源。其技术方案包括气源与所述气源连接的离子源进气接口;与所述离子源进气接口连接的离子源腔室,所述离子源进气接口和所述离子源腔室之间固定有连接组件一,所述离子源腔室底部内固定安装有离子溅射挡板;射频电源,设置于所述离子源腔室的一侧,所述离子源腔室与所述射频电源之间安装有线圈;用于支撑所述离子源腔室的支撑机构。本发明可以满足离子源在正压环境下的使用需求,避免外界压力气体环境对源产生影响,既满足离子源在外界正压环境下的使用条件,又满足射频耦合等离子体源需要频繁更换等离子体腔室的需求,成本低,便于维护更换。

Patent Agency Ranking