公开(公告)号：CN1220413A

公开(公告)日：1999-06-23

申请号：CN98119381.1

申请日：1998-09-25

Applicant: 可隆株式会社

Inventor： 俞在玉 ,  崔铉硕 ,  郑一荣 ,  李炳逸 ,  朴基振

IPC: G03F7/00

CPC classification number: G03F7/09 ,  G03F7/092

Abstract: 本发明涉及一种干膜光刻胶,其包括如下制备步骤:制备一种用下述方法制备的光敏聚合物,即向作为粘合剂聚合物的丙烯酸共聚物中加入光聚合单体、光引发剂、光敏剂、成色剂、增塑剂和热稳定剂;干燥以预定的厚度涂布在聚对苯二甲酸乙酯支承体上的光敏聚合物;用安全的方法层压具有一定表面性质的聚对苯二甲酸乙酯膜。由于用于制造印刷电路板和引线框的本发明的干膜光刻胶使用具有优良表面性质的聚对苯二甲酸乙酯膜,可避免由该方法而产生的如空气混入的任何问题,这不同于现有技术使用聚乙烯膜作为覆盖膜,于是明显地减少了最终产品的次品率。

公开(公告)号：CN1189793C

公开(公告)日：2005-02-16

申请号：CN98119381.1

申请日：1998-09-25

Applicant: 可隆株式会社

Inventor： 俞在玉 ,  崔铉硕 ,  郑一荣 ,  李炳逸 ,  朴基振

IPC: G03F7/11 ,  H05K3/06

CPC classification number: G03F7/09 ,  G03F7/092

Abstract: 本发明涉及一种干膜光刻胶，其包括如下制备步骤：制备一种用下述方法制备的光敏聚合物，即向作为粘合剂聚合物的丙烯酸共聚物中加入光聚合单体、光引发剂、光敏剂、成色剂、增塑剂和热稳定剂；干燥以预定的厚度涂布在聚对苯二甲酸乙二醇酯支承体上的光敏聚合物；用安全的方法层压具有一定表面性质的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。由于用于制造印刷电路板和引线框的本发明的干膜光刻胶使用具有优良表面性质的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜，可避免由该方法而产生的如空气混入的任何问题，这不同于现有技术使用聚乙烯膜作为覆盖膜，于是明显地减少了最终产品的次品率。