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公开(公告)号:CN101073036B
公开(公告)日:2013-01-23
申请号:CN200580042324.0
申请日:2005-12-07
Applicant: 可隆株式会社
IPC: G03F7/022
CPC classification number: G03F7/022 , G03F7/0007 , G03F7/0226 , G03F7/0233
Abstract: 正型光致抗蚀剂树脂膜包含载体膜和层压在所述载体膜上面的正型光致抗蚀剂树脂层。所述载体膜的峰高(Rp)小于约300nm以消除鱼眼缺陷。所述正型光致抗蚀剂树脂层可以包含碱溶性树脂、重氮化物基光敏化合物、增塑剂以及任选的灵敏度增强剂和释放剂。
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公开(公告)号:CN101010191B
公开(公告)日:2012-07-04
申请号:CN200580029626.4
申请日:2005-08-30
Applicant: 可隆株式会社
CPC classification number: C08G73/105 , B32B15/08 , B32B15/20 , B32B27/34 , B32B2250/02 , B32B2264/102 , B32B2264/104 , B32B2307/206 , B32B2307/306 , B32B2307/546 , B32B2307/734 , B32B2457/08 , C08G73/1067 , C08G73/1071 , C08G73/14 , C08L79/08 , H05K1/0346 , H05K1/0393 , H05K2201/0154 , H05K2201/0209
Abstract: 本发明提供一种挠性铜-聚酰亚胺层压板,包括在其至少一面上形成的线性无规嵌段聚酰亚胺层,该线性无规嵌段聚酰亚胺层包含0.25至90.25摩尔%由式1表示的重复单元l、0.25至90.25摩尔%由式2表示的重复单元m,0.25至90.25摩尔%由式3表示的重复单元n及0.25至90.25摩尔%由式4表示的重复单元o。具有聚酰亚胺层的该挠性铜-聚酰亚胺层压板没有卷曲,在尺寸稳定性、拉伸性质、耐折叠性及抗挠曲疲劳性上优异且具有低含湿量。
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公开(公告)号:CN101073035A
公开(公告)日:2007-11-14
申请号:CN200580042323.6
申请日:2005-12-07
Applicant: 可隆株式会社
IPC: G03F7/022
CPC classification number: G03F7/0007 , G03F7/022 , G03F7/0226 , G03F7/0236 , G03F7/09
Abstract: 正型光致抗蚀剂树脂膜包含载体膜和层压在所述载体膜上面的热固性正型光致抗蚀剂树脂层。所述正型光致抗蚀剂树脂层包含碱溶性树脂、重氮化物基光敏化合物和灵敏度增强剂。所述载体膜具有抑制缺陷结构如鱼眼的形成的表面粗糙度。本发明克服了加工的低效率和由旋涂光致抗蚀剂的技术导致的缺陷。
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公开(公告)号:CN101010191A
公开(公告)日:2007-08-01
申请号:CN200580029626.4
申请日:2005-08-30
Applicant: 可隆株式会社
CPC classification number: C08G73/105 , B32B15/08 , B32B15/20 , B32B27/34 , B32B2250/02 , B32B2264/102 , B32B2264/104 , B32B2307/206 , B32B2307/306 , B32B2307/546 , B32B2307/734 , B32B2457/08 , C08G73/1067 , C08G73/1071 , C08G73/14 , C08L79/08 , H05K1/0346 , H05K1/0393 , H05K2201/0154 , H05K2201/0209
Abstract: 本发明提供一种挠性铜-聚酰亚胺层压板,包括在其至少一面上形成的线性无规嵌段聚酰亚胺层,该线性无规嵌段聚酰亚胺层包含0.25至90.25摩尔%由式1表示的重复单元l、0.25至90.25摩尔%由式2表示的重复单元m,0.25至90.25摩尔%由式3表示的重复单元n及0.25至90.25摩尔%由式4表示的重复单元o。具有聚酰亚胺层的该挠性铜-聚酰亚胺层压板没有卷曲,在尺寸稳定性、拉伸性质、耐折叠性及抗挠曲疲劳性上优异且具有低含湿量。
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公开(公告)号:CN101111803B
公开(公告)日:2011-07-20
申请号:CN200680003673.6
申请日:2006-02-01
Applicant: 可隆株式会社
IPC: G03F7/022
CPC classification number: G03F7/0226 , G03F7/0048 , G03F7/0236
Abstract: 正性型光致抗蚀剂树脂膜包含支持膜和层叠在所述支持膜上的正性光致抗蚀剂树脂层。所述光致抗蚀剂层可以由包含树脂、光敏化合物和第一溶剂的组合物形成,其中第一溶剂具有足够高的沸点,以使通过加热可以将第二溶剂从所述组合物中除去,同时将第一溶剂基本上留在所述组合物中。
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公开(公告)号:CN101111798A
公开(公告)日:2008-01-23
申请号:CN200680003671.7
申请日:2006-02-01
Applicant: 可隆株式会社
IPC: G02F1/136
CPC classification number: G03F7/161 , G02F1/1362 , G02F2001/136231 , G03F7/0048 , G03F7/022 , H01L27/12 , H01L27/3244 , H01L2227/326
Abstract: 一种显示器用阵列通过如下步骤形成:将在支持膜上具有正性光致抗蚀剂树脂层的正性干膜抗蚀剂粘附到衬底上,使得光致抗蚀剂树脂层粘附在所述衬底的表面上。然后,将所述支持膜从粘附到所述衬底表面的光致抗蚀剂树脂层上释放;将所述层曝光;以及将在所述正性型光致抗蚀剂树脂层中的曝光区域显影并除去。
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