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公开(公告)号：CN102509719A
公开(公告)日：2012-06-20
申请号：CN201110365201.8
申请日：2011-11-11
申请人： 友达光电股份有限公司
CPC分类号： G09F9/301 , B32B37/26 , B32B2037/268 , B32B2457/20 , Y10T428/261 , Y10T428/31721
摘要： 一种可挠式显示器的制作方法。于承载基板上形成离型层。对离型层进行图案化，以形成图案化离型层。于图案化离型层上形成软性基板，软性基板覆盖图案化离型层，且软性基板的一部分与承载基板接触，其中图案化离型层与软性基板之间的附着力大于图案化离型层与承载基板之间的附着力。于软性基板上形成元件层。于元件层上形成显示层。同时切割软性基板与图案化离型层。使切割后的图案化离型层与承载基板分离，其中分离后的图案化离型层上依序配置有经切割的软性基板、元件层及显示层。
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公开(公告)号：CN101771070B
公开(公告)日：2012-01-04
申请号：CN200910249589.8
申请日：2009-12-30
申请人： 友达光电股份有限公司
摘要： 本发明提供一种有机发光装置、像素结构、接触结构及其制备方法。所述接触结构包括一第一导电层、至少一柱体、一发光层、以及一第二导电层。该导电层具有一接触区，该至少一柱体位于该接触区的该第一导电层上，该发光层局部覆盖该接触区的该第一导电层且暴露出该接触区的该柱体周围的部分该第一导电层，该第二导电层覆盖该接触区暴露的部分该第一导电层。该柱体具有一顶面与一底面，且该顶面宽于该底面。
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公开(公告)号：CN101964353A
公开(公告)日：2011-02-02
申请号：CN201010254780.4
申请日：2010-08-13
申请人： 友达光电股份有限公司
摘要： 本发明有关于一种有机电激发光显示单元，包括至少一晶体管、第一光传感器、第二光传感器、反射导电层、有机电激发光层及阴极层。晶体管与一扫描线及一数据线电性连接。第一光传感器包括第一反射底电极、第一感光层与第一透明顶电极。第二光传感器包括第二反射底电极、第二感光层与第二透明顶电极。第一光传感器与第二光传感器电性连接。反射导电层包括像素电极、遮光图案以及桥接图案，像素电极与晶体管电性连接，遮光图案与第二透明顶电极电性连接并且全面性遮蔽第二感光层，而桥接图案与第一透明顶电极、第一反射底电极及第二反射底电极电性连接。
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公开(公告)号：CN103413820B
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：CN201310370149.4
申请日：2013-08-22
申请人： 友达光电股份有限公司
CPC分类号： G02F1/133305 , G02F1/1345 , G02F1/136286 , H01L27/1218 , H01L27/124 , H01L27/1266 , H01L27/3276 , H01L29/78603 , H01L51/003 , H01L2227/323 , H01L2227/326 , H01L2251/5338
摘要： 一种可挠式显示面板，其包括缓冲层、有源元件、接垫、显示元件以及信号传递线路。有源元件位于缓冲层上。接垫位于缓冲层中，并与有源元件电性连接。显示元件位于有源元件上，并与有源元件电性连接，其中显示元件包括像素电极、对向电极以及位于像素电极与对向电极之间的显示介质层。有源元件与信号传递线路分别位于缓冲层相对的第一表面与第二表面，且信号传递线路通过接垫与有源元件电性连接。本发明另提供一种可挠式显示面板的制造方法。
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公开(公告)号：CN102664196B
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：CN201210156748.1
申请日：2012-05-18
申请人： 友达光电股份有限公司
IPC分类号： H01L29/786 , H01L21/336 , H01L21/20
摘要： 本发明公开一种阵列基板及多晶硅层的制作方法。在可挠基板上形成第一缓冲层。在第一缓冲层上形成第一阻挡层。在第一阻挡层上形成第二缓冲层。在第二缓冲层上形成第二阻挡层。在第二阻挡层上形成非晶硅层。以激光将非晶硅层转变成多晶硅层。
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公开(公告)号：CN102509719B
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：CN201110365201.8
申请日：2011-11-11
申请人： 友达光电股份有限公司
CPC分类号： G09F9/301 , B32B37/26 , B32B2037/268 , B32B2457/20 , Y10T428/261 , Y10T428/31721
摘要： 一种可挠式显示器的制作方法。于承载基板上形成离型层。对离型层进行图案化，以形成图案化离型层。于图案化离型层上形成软性基板，软性基板覆盖图案化离型层，且软性基板的一部分与承载基板接触，其中图案化离型层与软性基板之间的附着力大于图案化离型层与承载基板之间的附着力。于软性基板上形成元件层。于元件层上形成显示层。同时切割软性基板与图案化离型层。使切割后的图案化离型层与承载基板分离，其中分离后的图案化离型层上依序配置有经切割的软性基板、元件层及显示层。
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公开(公告)号：CN102427112B
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：CN201110391589.9
申请日：2011-11-15
申请人： 友达光电股份有限公司
CPC分类号： H01L27/3246 , H01L27/3276 , H01L51/5268 , H01L51/5275
摘要： 一种有机电激发光组件适于配置于基板上，并包括第一电极、第二电极、有机电激发光层、辅助电极、图案化散射层以及图案化介电层。第一电极具有第一折射率。第二电极与第一电极相对。有机电激发光层设置于第一电极与第二电极之间。辅助电极设置于第一电极与第二电极之间，电性连接第一电极，且与有机电激发光层之间有间距。图案化散射层设置于第一电极与辅助电极之间，覆盖辅助电极，并具有大于或等于第一折射率的第二折射率。图案化介电层设置于辅助电极与第二电极之间，覆盖辅助电极，且设置于辅助电极与有机电激发光层之间。
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公开(公告)号：CN103000531A
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN201210545696.7
申请日：2012-12-14
申请人： 友达光电股份有限公司
IPC分类号： H01L21/336
摘要： 本发明提供一种用于低温多晶硅薄膜晶体管的制造方法，包括：形成多晶硅主动层，以便在基板上定义出多晶硅主动区；形成图案化的透明导电氧化物金属层，用以定义出漏极掺杂区与源极掺杂区；形成栅极金属层；采用离子植入制程，形成该漏极掺杂区、该源极掺杂区以及轻掺杂漏极端；分别形成漏极金属层和源极金属层于栅极金属层的两侧；以及形成绝缘保护层于漏极金属层和源极金属层的上方。相比于现有技术，本发明利用透明导电氧化物金属层及栅极绝缘层的总厚度与单个栅极绝缘层之间的厚度差异，搭配P+植入能量，从而使用同一道掺杂制程即可达到轻掺杂漏极端、漏极掺杂区和源极掺杂区所需的掺杂剂量，进而减少光罩的使用数量。
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公开(公告)号：CN102427112A
公开(公告)日：2012-04-25
申请号：CN201110391589.9
申请日：2011-11-15
申请人： 友达光电股份有限公司
CPC分类号： H01L27/3246 , H01L27/3276 , H01L51/5268 , H01L51/5275
摘要： 一种有机电激发光组件适于配置于基板上，并包括第一电极、第二电极、有机电激发光层、辅助电极、图案化散射层以及图案化介电层。第一电极具有第一折射率。第二电极与第一电极相对。有机电激发光层设置于第一电极与第二电极之间。辅助电极设置于第一电极与第二电极之间，电性连接第一电极，且与有机电激发光层之间有间距。图案化散射层设置于第一电极与辅助电极之间，覆盖辅助电极，并具有大于或等于第一折射率的第二折射率。图案化介电层设置于辅助电极与第二电极之间，覆盖辅助电极，且设置于辅助电极与有机电激发光层之间。
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公开(公告)号：CN102629593B
公开(公告)日：2014-04-02
申请号：CN201210092783.1
申请日：2012-03-29
申请人： 友达光电股份有限公司
CPC分类号： H01L27/1266 , Y10T29/4913
摘要： 一种软性电子装置及其制作方法，该制作方法包含：形成第一层于基材上，以定义第一区域与围绕第一区域的第二区域，以至少局部地暴露出第一区域中的基材，且第一层位于第二区域中；形成第二层于第一区域与第二区域上方的第一层上，因而第二层与第一区域中的基材间的附着力较第二层与第二区域中的第一层间的附着力弱；形成电子装置层于第一区域上方的第二层上，EDL定义出边界，此边界投影地位于第一区域中；以及通过沿着轮廓切穿第一层与第二层的方式，将EDL与基材分离，此轮廓位于第一区域中但不小于边界。
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