公开(公告)号：CN116814943A

公开(公告)日：2023-09-29

申请号：CN202310516385.6

申请日：2023-05-09

Applicant: 厦门大学

Inventor： 洪明辉 ,  陈哲堃

IPC: C21D10/00 ,  B23K26/352

Abstract: 本发明提供一种疏粉末表面及其制备方法和应用，该表面形成有至少一层纳米波纹结构，纳米波纹结构的特征尺寸为1‑100μm；优选地，表面自上而下依次形成波纹方向不平行的一级结构和二级结构，二级结构的特征尺寸小于一级结构的特征尺寸，一级结构的平均深度大于二级结构，二级结构的特征尺寸为1‑5μm，表面为硬质金属表面。疏粉末表面基于脉冲激光的表面纹理技术修饰金属/合金基材的表面形貌，在基底上构筑微米级沟壑状突起的表面微纳结构，减小粉末颗粒和基底间的接触面积，从而减小粉末的粘附力，通过倾斜表面即可使附着在基底上的粉末自然脱落。该方案可适用于任何需要防止粉末污染的制品、设备或加工环境中，实现表面粉末粘附面积大幅降低的效果。

公开(公告)号：CN117532163A

公开(公告)日：2024-02-09

申请号：CN202311292866.X

申请日：2023-10-08

Applicant: 厦门大学

Inventor： 谢超雄 ,  陈哲堃 ,  洪明辉

IPC: B23K26/346 ,  B23K26/70

Abstract: 本申请提出了一种高频电磁感应加热辅助激光加工装置，其特征在于，包括激光发射系统、激光振镜系统、电磁感应加热系统、冷却系统及测温系统；激光发射系统与激光振镜系统相连；测温系统、电磁感应加热系统及冷却系统依次相连；激光发射系统被配置用于发射激光；激光振镜系统被配置用于控制激光发射系统发射出的激光路径；电磁感应加热系统被配置用于将待加工金属样品加热至目标温度；冷却系统被配置用于为电磁感应加热系统进行降温；测温系统被配置用于实时检测金属样品的温度。在相同的激光能量参数下，能实现更深的加工深度、更宽的加工宽度，以及更多加工材料的去除，还能提升样品的加工质量，提高了激光能量的利用率和激光加工的效率。

公开(公告)号：CN113372878A

公开(公告)日：2021-09-10

申请号：CN202110484572.1

申请日：2021-04-30

Applicant: 厦门大学

Inventor： 周锐 ,  陈哲堃

IPC: C09K3/18

Abstract: 本发明公开了一种具有火山口状阵列的微纳结构及其制备方法和应用，其包括基底和分布在所述基底上的若干个复合结构单元，所述复合结构单元包括实心圆台本体，所述实心圆台本体上的上底面开设有盲孔。本发明的一种具有火山口状阵列的微纳结构在低温高湿环境下具有较好的机械稳定性和抗冲击性。

公开(公告)号：CN216938970U

公开(公告)日：2022-07-12

申请号：CN202220176207.4

申请日：2022-01-21

Applicant: 厦门大学 ,  嘉庚创新实验室

Inventor： 周锐 ,  严星 ,  王振忠 ,  朱宇超 ,  陈哲堃 ,  洪明辉

IPC: B23K26/362 ,  B23K26/16 ,  B23K26/70

Abstract: 本申请公开了一种基片承载及吹扫装置。基片承载及吹扫装置包括真空发生器、气体吹送器和载台；载台顶端设有气流槽；气流槽的槽壁设有朝向气流槽的吹扫孔；吹扫孔连通气体吹送器，以接入气流并朝向气流槽内吹出气体；气流槽的槽底设有承载槽；承载槽与基片匹配；承载槽的槽底设有若干支承基片的凸起部和沿竖直方向贯通的通孔；凸起部的顶端设有吸附孔；各凸起部沿通孔的周向布设；吸附孔连通真空发生器，各吸附孔内的空气由真空发生器进行抽吸且能够处于真空状态；基片支承于凸起部上时，其上表面低于或齐平于气流槽的槽底。采用上述技术方案的基片承载及吹扫装置，其能够灵活地对基片进行装载，对基片的定位准确，基片损伤风险小且清洁度高。

公开(公告)号：CN216871006U

公开(公告)日：2022-07-01

申请号：CN202220190994.8

申请日：2022-01-24

Applicant: 厦门大学 ,  嘉庚创新实验室

Inventor： 周锐 ,  陈哲堃 ,  王振忠 ,  朱宇超 ,  严星 ,  洪明辉

IPC: G03F7/20

Abstract: 本实用新型公开了一种桌面便携式无掩膜曝光机，其特征在于：包括壳体和安装在所述壳体内的激光系统、微透镜阵列模块、移动平台及电源，所述的微透镜阵列模块设在激光系统与移动平台之间，所述的移动平台承载加工基片，激光系统发出的激光束照射到微透镜阵列模块上被分束和聚焦后投射到移动平台上的加工基片进行曝光。它具有如下优点：实现无掩膜光刻，加工效率高，尤其适用周期性图案的曝光加工，小型化、便于移动和携带。