公开(公告)号：CN119897604A

公开(公告)日：2025-04-29

申请号：CN202510210808.0

申请日：2025-02-25

Applicant: 厦门大学

Inventor： 韩联欢 ,  刘瑶 ,  詹东平 ,  袁文 ,  陈佳威

IPC: B23K26/362 ,  B23K26/064 ,  B23K26/067 ,  B23K26/70

Abstract: 本发明提供一种光电化学激光直写刻蚀装置及无掩模刻蚀加工方法，其中光电化学激光直写装置包括激光光源、声光调制器、反射镜、透镜、空间滤波器模组、滤光物镜、二向色镜‑分束镜、聚焦物镜；照明光源、分光镜、工业相机；运动控制器、运动样品台；运动样品台用于放置待刻蚀晶圆；激光光源产生的激光经由第一反射镜、第二反射镜转向后沿第二直线依次通过滤光物镜、空间滤波器模组后，激光经由第三反射镜、第四反射镜后发射至二向色镜‑分束镜，被反射的激光依次通过二向色镜‑分束镜、聚焦物镜，发射至运动样品台上的待刻蚀晶圆。本发明是一种无掩膜、高效率、低成本、操作简便的光电化学激光直写，可以实现对复杂自由曲面微光学元件的制造。