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公开(公告)号:CN100436654C
公开(公告)日:2008-11-26
申请号:CN200510007195.3
申请日:2005-01-28
Applicant: 厦门大学
IPC: C25D11/04
Abstract: 多孔氧化铝模板制备方法及其装置,涉及一种硬模板,提供一种前期处理过程简化,实验过程操作简单,设备和溶剂简单易得,制备时间短,药品使用少的多孔氧化铝模板制备方法及其装置。设有电解槽、槽盖、阳极与引出线、阴极与引出线和磁力搅拌器,槽壁为中空双层结构,槽壁上设入、出水口,入、出水口与槽壁的中空内腔相通;槽盖设于电解槽上;阳、阴极置于电解液中,阳极为铝片电极,阴极为铂片电极。其步骤为将铝箔抛光,抛光容器在水浴加热;抛光后放入电解槽,电解槽处于低于室温的温度;将氧化后的铝箔浸泡于饱和氯化汞溶液中,再将脱离铝基的氧化铝薄膜洗净,在H3PO4中浸泡至形成通孔。
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公开(公告)号:CN1676676A
公开(公告)日:2005-10-05
申请号:CN200510007195.3
申请日:2005-01-28
Applicant: 厦门大学
IPC: C25D11/04
Abstract: 多孔氧化铝模板制备方法及其装置,涉及一种硬模板,提供一种前期处理过程简化,实验过程操作简单,设备和溶剂简单易得,制备时间短,药品使用少的多孔氧化铝模板制备方法及其装置。设有电解槽、槽盖、阳极与引出线、阴极与引出线和磁力搅拌器,槽壁为中空双层结构,槽壁上设入、出水口,入、出水口与槽壁的中空内腔相通;槽盖设于电解槽上;阳、阴极置于电解液中,阳极为铝片电极,阴极为铂片电极。其步骤为将铝箔抛光,抛光容器在水浴加热;抛光后放入电解槽,电解槽处于低于室温的温度;将氧化后的铝箔浸泡于饱和氯化汞溶液中,再将脱离铝基的氧化铝薄膜洗净,在H3PO4中浸泡至形成通孔。
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