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发明公开
具有气体结合部件的EUV光刻系统审中-实审

公开(公告)号：CN118742857A

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202280090800.X

申请日：2022-12-15

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司 , ASML荷兰公司

Inventor： W·克鲁特霍夫 , P·雅古比 , J·利奥

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种EUV光刻系统，包括：壳体(25)，其内部(24)包含残余气体(27)；以及至少一个气体结合部件(29)，其布置在内部(24)中并且包括用于结合污染物质(28)的气体结合材料。所述气体结合部件(29)包括至少一个流动管道(33)，所述流动管道(33)具有至少一个具有所述气体结合材料的表面，所述流动管道(33)中的所述残余气体(27)的气流具有0.01与5之间、优选0.01与0.5之间、特别是0.01与0.3之间的克努森数，并且封装所述EUV光刻系统(1)的光束路径的外壳(26)布置在所述壳体(25)的内部(24)中。外壳(26)优选地包括具有维护井(36)的开口(37)，所述气体结合部件(29)布置在所述维护井(36)中。

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