公开(公告)号：CN116981966A

公开(公告)日：2023-10-31

申请号：CN202280021297.2

申请日：2022-03-09

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： T·席克坦茨

IPC: G02B5/08

Abstract: 用于制造极紫外光波长范围的反射光学元件，在基板上具有多层系统形式的反射涂层，其中该多层系统具有至少两个不同材料的相互交替层，所述不同材料在极紫外波长范围内的波长处具有不同的折射率实部，其中所述至少两个材料之一的层与随着与该基板的距离增加而配置在相同材料的前一层与最接近层之间的一层或多层一起形成堆叠体，建议于其沉积期间或之后抛光至少一层，使得在生成的反射光学元件中，所有层上的粗糙度与在具有由多个未抛光层所构成的多层系统形式的反射涂层的相对应反射光学元件中的粗糙度相比不显著地增加，并且50个以上的堆叠体被应用。更佳者，选择该层厚度，使得至少一个堆叠体中的至少两个材料之一的层的厚度与(多个)相邻堆叠体中的该材料的层的厚度相差超过10％。如此所生成的反射光学元件具有提高的反射率。

公开(公告)号：CN116868130A

公开(公告)日：2023-10-10

申请号：CN202280016218.9

申请日：2022-01-17

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： T·席克坦茨 ,  T·格鲁纳 ,  M·施瓦布 ,  J·哈吉斯

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明关于一光学系统，特别是用于EUV光刻的光学系统，包含：用于使用照明辐射来照明一照明表面的照明源、用于照明辐射的空间分辨检测的具有检测表面(36)的检测器(35)、构造为将照明表面成像到检测表面(36)上的投射系统、以及构造为基于检测表面(36)处的照明辐射的强度(I)来推断在照明表面和检测表面(36)之间的射束路径(29)中的光学元件(M6)上的污染物(36)的评估装置(37)。光学系统配置为设定从照明表面传递到检测表面(36)的照明辐射的不同角度分布，且评估装置(37)构造为基于针对不同角度分布的检测表面(36)上的照明辐射强度(I)，推断出光学元件(M6)上的污染物，特别是污染物在光学元件(M6)上的位置。