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公开(公告)号：CN108292035B
公开(公告)日：2021-07-27
申请号：CN201680067208.2
申请日：2016-10-14
Applicant: 卡尔蔡司显微镜有限责任公司
Abstract: 本发明涉及一种样品定界元件(1)，其至少在一个区域中由纳米多孔材料构成，纳米多孔材料对于通过显微镜(6)可捕捉的至少一个观察辐照(9)是透明的，其中纳米多孔材料包括孔(2)，其平均孔径小于观察辐照(9)的波长，并且纳米多孔材料的体积的至少5％的比例由至少在纳米多孔材料的部分中的孔(2)占据。该材料具有开放孔隙率，平均孔径至多为1000nm，并且纳米多孔材料的每单位体积的孔(2)的数目和/或平均孔径沿着样品定界元件(1)的至少一个范围改变，使得在样品定界元件(1)中形成孔梯度(11)，并且其具有其中不存在孔隙率的至少一个梯度部分，使得通过样品定界元件(1)，实现样品定界元件(1)的一个侧表面(1.1，1.2)上的样品介质(3)与样品定界元件(1)的相对的侧表面(1.1，1.2)上的浸没介质(4)的分离。本发明还涉及使用样品定界元件(1)的显微术方法，以及显微镜(6)。此外，本发明涉及用于生产样品定界元件(1)的可能材料。
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公开(公告)号：CN108292035A
公开(公告)日：2018-07-17
申请号：CN201680067208.2
申请日：2016-10-14
Applicant: 卡尔蔡司显微镜有限责任公司
Abstract: 本发明涉及一种样品定界元件(1)，其至少在一个区域中由纳米多孔材料构成，纳米多孔材料对于通过显微镜(6)可捕捉的至少一个观察辐照(9)是透明的，其中纳米多孔材料包括孔(2)，其平均孔径小于观察辐照(9)的波长，并且纳米多孔材料的体积的至少5％的比例由至少在纳米多孔材料的部分中的孔(2)占据。该材料具有开放孔隙率，平均孔径至多为1000nm，并且纳米多孔材料的每单位体积的孔(2)的数目和/或平均孔径沿着样品定界元件(1)的至少一个范围改变，使得在样品定界元件(1)中形成孔梯度(11)，并且其具有其中不存在孔隙率的至少一个梯度部分(11.1)，使得通过样品定界元件(1)，实现样品定界元件(1)的一个侧表面(1.1，1.2)上的样品介质(3)与样品定界元件(1)的相对的侧表面(1.1，1.2)上的浸没介质(4)的分离。本发明还涉及使用样品定界元件(1)的显微术方法，以及显微镜(6)。此外，本发明涉及用于生产样品定界元件(1)的可能材料。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109557654B
公开(公告)日：2022-05-17
申请号：CN201811123379.X
申请日：2018-09-26
Applicant: 卡尔蔡司显微镜有限责任公司
Abstract: 本发明涉及浸没基体(5)，其被构造用于调整光学装置的分界面处的光学性能，所述浸没基体在浸没基体(5)的材料(6)中具有多孔结构，所述多孔结构具有孔(7)和/或纳米孔(8)，所述孔(7)具有选自大于20nm至200μm的范围的至少一个孔径，其中，纳米孔(8)具有选自0.5nm至20nm范围的至少一个平均孔径，所述多孔结构具有选自0.1‑100MPa范围内的弹性模量E。本发明还涉及浸没基体(5)的应用、具有浸没基体(5)的装置以及浸没设备。
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公开(公告)号：CN110730923B
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN201880038159.9
申请日：2018-04-23
Applicant: 卡尔蔡司显微镜有限责任公司
Abstract: 获得至少一个图像，该至少一个图像显示了光学系统(100)的至少一个可互换部件(111‑116)的外视图。基于至少一个图像确定至少一个可互换部件(111‑116)的情境信息。
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公开(公告)号：CN109557654A
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201811123379.X
申请日：2018-09-26
Applicant: 卡尔蔡司显微镜有限责任公司
Abstract: 本发明涉及浸没基体(5)，其被构造用于调整光学装置的分界面处的光学性能，所述浸没基体在浸没基体(5)的材料(6)中具有多孔结构，所述多孔结构具有孔(7)和/或纳米孔(8)，所述孔(7)具有选自大于20nm至200μm的范围的至少一个孔径，其中，纳米孔(8)具有选自0.5nm至20nm范围的至少一个平均孔径，所述多孔结构具有选自0.1-100MPa范围内的弹性模量E。本发明还涉及浸没基体(5)的应用、具有浸没基体(5)的装置以及浸没设备。
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公开(公告)号：CN112001408B
公开(公告)日：2022-04-19
申请号：CN202010460937.2
申请日：2020-05-27
Applicant: 卡尔蔡司显微镜有限责任公司
IPC: G06V10/764 , G06V10/774 , G06V10/82 , G06K9/62 , G06N3/02 , G02B21/00
Abstract: 基于校准样本的标识的自动化工作流。提出了一种用于校准显微镜系统的方法和对应的校准系统。该方法包括记录显微镜系统的样本台的概览图像和在所记录的概览图像中标识校准样本。此外，该方法包括借助于分类系统将所记录的概览图像中的校准样本分类为多个校准样本类别中的一个，该分类系统使用训练数据被训练，以便形成模型，使得该分类系统被适配用于将未知的输入数据分类为预测类别。此外，该方法包括基于经分类的校准样本类别来选择用于校准显微镜系统的校准工作流，其中借助于工作流指示值来执行该选择，该工作流指示值用作用于工作流选择系统的输入值。此外，该方法可以包括校准显微镜系统的部件。
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公开(公告)号：CN112001408A
公开(公告)日：2020-11-27
申请号：CN202010460937.2
申请日：2020-05-27
Applicant: 卡尔蔡司显微镜有限责任公司
Abstract: 基于校准样本的标识的自动化工作流。提出了一种用于校准显微镜系统的方法和对应的校准系统。该方法包括记录显微镜系统的样本台的概览图像和在所记录的概览图像中标识校准样本。此外，该方法包括借助于分类系统将所记录的概览图像中的校准样本分类为多个校准样本类别中的一个，该分类系统使用训练数据被训练，以便形成模型，使得该分类系统被适配用于将未知的输入数据分类为预测类别。此外，该方法包括基于经分类的校准样本类别来选择用于校准显微镜系统的校准工作流，其中借助于工作流指示值来执行该选择，该工作流指示值用作用于工作流选择系统的输入值。此外，该方法可以包括校准显微镜系统的部件。
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