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公开(公告)号：CN109164684A
公开(公告)日：2019-01-08
申请号：CN201811226681.8
申请日：2018-10-22
Applicant: 南开大学
IPC: G03F7/20 , G03F7/42 , G02F1/1337
Abstract: 本发明公开了一种基于掩模曝光法的大面积面外液晶区域定向方法及其系统，本方法使用掩模曝光系统构建聚合物微结构；聚合物微可由不同区域构成，每个区域的特征尺寸在几十微米量级，且区域内的液晶定向均匀；聚合物微结构的总体尺寸可从几十平方微米量级到平方分米量级，从而满足大面积加工要求，并且可以随意调整基板表面的加工范围和结构设计。本发明定向方法及系统操作简单，不需要使用机械或光诱导的方式在基板上形成定向诱导膜，能够在微米量级区域实现液晶的自定向，定向方向可以微区域调控，有利于液晶器件的微型化和三维的液晶结构定向，可广泛的推广应用。
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