一种高K围栅场介质纵向双扩散功率器件

    公开(公告)号:CN112768530B

    公开(公告)日:2022-10-21

    申请号:CN202110147386.9

    申请日:2021-02-03

    Abstract: 本发明公开了一种高K围栅场介质纵向双扩散功率器件,包括半导体漂移区、设置在半导体漂移区上方的半导体阱区、以及设置在半导体漂移区下方的半导体漏区;还包括高K围场介质,将高K围场介质上部刻蚀形成高K围栅介质;所述半导体阱区上方设置有半导体体接触区和半导体源区。本发明在开态时,高K围栅介质降低了器件的阈值电压、沟道电阻以及栅极泄漏电流,增加了器件的跨导和输出电流;栅端金属电极、高K围栅场介质和半导体漂移区构成了MIS电容,在开态时,在漂移区与高K围栅场介质界面处产生电子积累层,降低器件的比导通电阻;在关态时,高K围栅场介质对漂移区有辅助耗尽作用,能够使漂移区具有更高的掺杂浓度,降低器件的比导通电阻。

    一种高K围栅场介质纵向双扩散功率器件

    公开(公告)号:CN112768530A

    公开(公告)日:2021-05-07

    申请号:CN202110147386.9

    申请日:2021-02-03

    Abstract: 本发明公开了一种高K围栅场介质纵向双扩散功率器件,包括半导体漂移区、设置在半导体漂移区上方的半导体阱区、以及设置在半导体漂移区下方的半导体漏区;还包括高K围场介质,将高K围场介质上部刻蚀形成高K围栅介质;所述半导体阱区上方设置有半导体体接触区和半导体源区。本发明在开态时,高K围栅介质降低了器件的阈值电压、沟道电阻以及栅极泄漏电流,增加了器件的跨导和输出电流;栅端金属电极、高K围栅场介质和半导体漂移区构成了MIS电容,在开态时,在漂移区与高K围栅场介质界面处产生电子积累层,降低器件的比导通电阻;在关态时,高K围栅场介质对漂移区有辅助耗尽作用,能够使漂移区具有更高的掺杂浓度,降低器件的比导通电阻。

    一种鳍式横向双扩散功率器件

    公开(公告)号:CN111244185B

    公开(公告)日:2022-07-08

    申请号:CN202010084930.5

    申请日:2020-02-10

    Abstract: 本发明公开了一种鳍式横向双扩散功率器件,将衬底上方的有源区制备成鳍式结构,随后采用高介电常数介质覆盖于鳍式有源区的两侧及表面,从三个方向进行对有源区进行调制;将三栅代替原有的表面栅,具有更好的沟道控制能力并降低器件关闭时的漏电流;将常用的氧化硅栅介质变为高k栅介质,能够具有更厚的物理氧化层并改善栅极漏电流的问题。本发明具有高耐压,低导通电阻,低漏电流等优点,适用于高压高频领域。

    一种鳍式横向双扩散功率器件

    公开(公告)号:CN111244185A

    公开(公告)日:2020-06-05

    申请号:CN202010084930.5

    申请日:2020-02-10

    Abstract: 本发明公开了一种鳍式横向双扩散功率器件,将衬底上方的有源区制备成鳍式结构,随后采用高介电常数介质覆盖于鳍式有源区的两侧及表面,从三个方向进行对有源区进行调制;将三栅代替原有的表面栅,具有更好的沟道控制能力并降低器件关闭时的漏电流;将常用的氧化硅栅介质变为高k栅介质,能够具有更厚的物理氧化层并改善栅极漏电流的问题。本发明具有高耐压,低导通电阻,低漏电流等优点,适用于高压高频领域。

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