GaN基微米级LED阵列及其制备方法

    公开(公告)号:CN107482031B

    公开(公告)日:2020-05-05

    申请号:CN201710675506.6

    申请日:2017-08-09

    Abstract: 本发明公开了一种GaN基微米级LED阵列及其制备方法,该器件包括LED阵列单元、覆盖在LED阵列单元上方的隔离层、设置在隔离层上的n‑电极引线区,LED阵列单元中的LED器件的正极相连并与p‑电极引线区连接;LED器件包括从下至上依次设置的n‑GaN层、InGaN/GaN多量子阱层、p‑GaN层、p‑电极和设置在n‑GaN层上位于InGaN/GaN多量子阱层一侧的n‑电极,所有LED器件的n‑电极连为一体。本发明在p型区和n型区大面积蒸镀金属电极并作为反射镜,抑制光从正面出射,实现背发光;LED器件相互独立,LED阵列单元均可收发,实现超高速MIMO系统收发端;同时,结合GaN基InGaN/GaN多量子阱材料的特点,配合外部电路设计,通过收集外界震动和光源的能量,实现能量采集功能。

    GaN基微米级LED阵列及其制备方法

    公开(公告)号:CN107482031A

    公开(公告)日:2017-12-15

    申请号:CN201710675506.6

    申请日:2017-08-09

    Abstract: 本发明公开了一种GaN基微米级LED阵列及其制备方法,该器件包括LED阵列单元、覆盖在LED阵列单元上方的隔离层、设置在隔离层上的n-电极引线区,LED阵列单元中的LED器件的正极相连并与p-电极引线区连接;LED器件包括从下至上依次设置的n-GaN层、InGaN/GaN多量子阱层、p-GaN层、p-电极和设置在n-GaN层上位于InGaN/GaN多量子阱层一侧的n-电极,所有LED器件的n-电极连为一体。本发明在p型区和n型区大面积蒸镀金属电极并作为反射镜,抑制光从正面出射,实现背发光;LED器件相互独立,LED阵列单元均可收发,实现超高速MIMO系统收发端;同时,结合GaN基InGaN/GaN多量子阱材料的特点,配合外部电路设计,通过收集外界震动和光源的能量,实现能量采集功能。

    基于分布式布拉格反射镜波导微腔的硅衬底GaN激光器

    公开(公告)号:CN107404067A

    公开(公告)日:2017-11-28

    申请号:CN201710518114.9

    申请日:2017-06-29

    CPC classification number: H01S5/20

    Abstract: 本发明属于信息材料与器件领域,提供一种基于分布式布拉格反射镜波导微腔的硅衬底GaN激光器及其制作方法。所述激光器以硅基氮化物晶片为载体,包括硅衬底层、设置在所述硅衬底层上的外延缓冲层、设置在所述外延缓冲层上的p-n结量子阱器件,设置在所述p-n结量子阱器件上的SiO2绝缘层,设置在所述SiO2绝缘层上的p-电极的引线电极区和n-电极的引线电极区及分布式布拉格反射镜。本发明利用FIB技术,在InGaN波导上加工配对的分布式布拉格反射镜结构,形成微腔结构,获得基于分布式布拉格反射镜波导微腔的硅衬底GaN激光器,并结合AlN/AlGaN应力调控缓冲层技术,实现电泵浦硅衬底GaN激光器;可用于可见光通信、显示及传感领域。

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