用于有机电致发光器件的铂配合物及其制备方法

    公开(公告)号:CN109734750A

    公开(公告)日:2019-05-10

    申请号:CN201910139374.4

    申请日:2019-02-25

    Abstract: 本发明公开了一种用于有机电致发光器件的铂配合物及其制备方法。在基础配体上修饰不同的位阻基团,包括羰基、螺结构、咔唑基团,再与合成的Pt(DMSO)Cl2配位,生成铂金属配合物,其结构通式由下式表示。铂配合物兼具较高的热稳定性、高品质的光辐射特性以及良好的溶解性,可通过溶液法制备电致发光器件,降低器件的制作成本。铂配合物的制备方法简单,反应条件温和,分离纯化容易,产率高。作为客体材料制备的发光器件启亮电压为2.8V,发光亮度最高为15408.6cd/m2,电流效率最大为16.0cd/A,电致发光光谱色纯度较好,呈现单一的发射峰,没有杂峰。

    一种稠环化合物及其合成方法和应用

    公开(公告)号:CN110003256B

    公开(公告)日:2021-09-07

    申请号:CN201910302795.4

    申请日:2019-04-16

    Abstract: 本发明公开了一种稠环化合物和合成方法,以及该稠环化合物作为发光材料在OLEDs中的应用。其结构通式如式(1)所示。取代基R1=氢原子、咔唑基、吩噻嗪基、吡啶基、喹喔啉基、氰基、卤原子、芴基、苯胺基、吖啶基、苊烯基、稠环基、吲哚基,n是1~4的整数;R2=氢原子、C1~C3烷基、取代或非取代的苯基;R3、R4=氢原子、C1~C3烷氧基、咔唑基、吡啶基,R3、R4相同或者不同;R5、R6=氢原子、C1~C3烷基、咔唑基、氰基、苯基,R5、R6相同或者不同。本发明的稠环化合物兼具热稳定性、高效率荧光发射特性;在OLEDs中有良好的应用前景,其发光效率和最大亮度都很高;本发明合成方法简单。

    一种稠环化合物及其合成方法和应用

    公开(公告)号:CN110003256A

    公开(公告)日:2019-07-12

    申请号:CN201910302795.4

    申请日:2019-04-16

    Abstract: 本发明公开了一种稠环化合物和合成方法,以及该稠环化合物作为发光材料在OLEDs中的应用。其结构通式如式(1)所示。取代基R1=氢原子、咔唑基、吩噻嗪基、吡啶基、喹喔啉基、氰基、卤原子、芴基、苯胺基、吖啶基、苊烯基、稠环基、吲哚基,n是1~4的整数;R2=氢原子、C1~C3烷基、取代或非取代的苯基;R3、R4=氢原子、C1~C3烷氧基、咔唑基、吡啶基,R3、R4相同或者不同;R5、R6=氢原子、C1~C3烷基、咔唑基、氰基、苯基,R5、R6相同或者不同。本发明的稠环化合物兼具热稳定性、高效率荧光发射特性;在OLEDs中有良好的应用前景,其发光效率和最大亮度都很高;本发明合成方法简单。

    一种涂膜设备
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109290128A

    公开(公告)日:2019-02-01

    申请号:CN201811047686.4

    申请日:2018-09-10

    Abstract: 本发明公开了一种涂膜设备,其特征是,包括机架、样品台、监控模块和涂布头;所述涂布头、样品台均位于机架上;所述机架侧面设置有滑动模块;所述涂布头通过千分尺连接支撑座;所述支撑座与滑动模块相连接;沿所述滑动模块滑动方向,涂布头在样品台上进行涂膜;所述监控模块分别与机架和涂布头相连接;所述涂布头包括金属槽、出料孔、加压模块和压力显示及控制器;所述金属槽中部的槽设置为V型柱体;所述出料孔均匀分布在金属槽的底面,且与V型柱体连通;所述加压模块、压力显示及控制器均设置在金属槽顶部。本发明所达到的有益效果:本涂膜机可以一次涂膜、干燥、再涂膜、再干燥,实现多层涂膜,有利于制备多层薄膜器件。

    用于有机电致发光器件的铂配合物及其制备方法

    公开(公告)号:CN109734750B

    公开(公告)日:2020-12-25

    申请号:CN201910139374.4

    申请日:2019-02-25

    Abstract: 本发明公开了一种用于有机电致发光器件的铂配合物及其制备方法。在基础配体上修饰不同的位阻基团,包括羰基、螺结构、咔唑基团,再与合成的Pt(DMSO)Cl2配位,生成铂金属配合物,其结构通式由下式表示。铂配合物兼具较高的热稳定性、高品质的光辐射特性以及良好的溶解性,可通过溶液法制备电致发光器件,降低器件的制作成本。铂配合物的制备方法简单,反应条件温和,分离纯化容易,产率高。作为客体材料制备的发光器件启亮电压为2.8V,发光亮度最高为15408.6cd/m2,电流效率最大为16.0cd/A,电致发光光谱色纯度较好,呈现单一的发射峰,没有杂峰。

    一种涂膜设备
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109290128B

    公开(公告)日:2021-03-12

    申请号:CN201811047686.4

    申请日:2018-09-10

    Abstract: 本发明公开了一种涂膜设备,其特征是,包括机架、样品台、监控模块和涂布头;所述涂布头、样品台均位于机架上;所述机架侧面设置有滑动模块;所述涂布头通过千分尺连接支撑座;所述支撑座与滑动模块相连接;沿所述滑动模块滑动方向,涂布头在样品台上进行涂膜;所述监控模块分别与机架和涂布头相连接;所述涂布头包括金属槽、出料孔、加压模块和压力显示及控制器;所述金属槽中部的槽设置为V型柱体;所述出料孔均匀分布在金属槽的底面,且与V型柱体连通;所述加压模块、压力显示及控制器均设置在金属槽顶部。本发明所达到的有益效果:本涂膜机可以一次涂膜、干燥、再涂膜、再干燥,实现多层涂膜,有利于制备多层薄膜器件。

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