公开(公告)号：CN118114326A

公开(公告)日：2024-05-31

申请号：CN202410232444.1

申请日：2024-03-01

Applicant: 南京理工大学

Inventor： 韦辉亮 ,  胡薇 ,  尹清远 ,  刘婷婷 ,  廖文和

IPC: G06F30/10 ,  G06F30/20 ,  G06F30/28 ,  G06F113/10 ,  G06F113/08 ,  G06F119/14

Abstract: 本发明公开了一种增材制造沉积缺陷演化分析及主动消除方法，包括步骤一：建立增材制造缺陷演化模型；步骤二：根据步骤一建立的模型，进行单层打印模拟，提出球化临界条件；步骤三：根据步骤一建立的模型，进行多层打印模拟，判断未熔合缺陷的演化模式，提出多层打印缺陷自愈合临界条件；步骤四：根据步骤三的缺陷演化类别，进行缺陷主动控制，提出主动控制的熔池特征及打印层数的临界条件。利用本发明的缺陷分析和消除的方法，可以实现增材制造过程中沉积缺陷的消除，有望为在线监测过程主动控制工艺条件提供理论参考依据，提高成形件的质量。