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公开(公告)号：CN112442669B
公开(公告)日：2022-09-23
申请号：CN202011321176.9
申请日：2020-11-23
Applicant: 南京工程学院
Abstract: 本发明公开了一种自清洁减反射薄膜的制备方法，包括以下步骤：步骤一：取清洗干净的玻璃基体，置于磁控溅射装置的腔室内，采用金属靶和二氧化硅靶共溅射；步骤二：将沉积结束的玻璃基体浸入特制去金属溶液中，超声振荡0.5‑1h，进行湿法刻蚀，获得二氧化硅薄膜；步骤三：将去金属后的玻璃基体用流动水清洗干净，再浸入稀盐酸溶液中去除多余的碱液；步骤四：将中和清洗后的玻璃基体取出，并采用流动水冲洗干净，表面吹干，置于退火炉中300‑500℃退火1‑2h，使二氧化硅薄膜结晶，最终在玻璃基体上得到具有孔洞结构的二氧化硅结晶态薄膜。本发明提供的一种自清洁减反射薄膜的制备方法，能够起到自清洁和减反射双重作用。
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公开(公告)号：CN112442669A
公开(公告)日：2021-03-05
申请号：CN202011321176.9
申请日：2020-11-23
Applicant: 南京工程学院
Abstract: 本发明公开了一种自清洁减反射薄膜的制备方法，包括以下步骤：步骤一：取清洗干净的玻璃基体，置于磁控溅射装置的腔室内，采用金属靶和二氧化硅靶共溅射；步骤二：将沉积结束的玻璃基体浸入特制去金属溶液中，超声振荡0.5‑1h，进行湿法刻蚀，获得二氧化硅薄膜；步骤三：将去金属后的玻璃基体用流动水清洗干净，再浸入稀盐酸溶液中去除多余的碱液；步骤四：将中和清洗后的玻璃基体取出，并采用流动水冲洗干净，表面吹干，置于退火炉中300‑500℃退火1‑2h，使二氧化硅薄膜结晶，最终在玻璃基体上得到具有孔洞结构的二氧化硅结晶态薄膜。本发明提供的一种自清洁减反射薄膜的制备方法，能够起到自清洁和减反射双重作用。
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