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公开(公告)号：CN116991042A
公开(公告)日：2023-11-03
申请号：CN202310792457.X
申请日：2023-06-30
Applicant: 南京工业大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种用于超长微细结构曝光的移动式光刻装置，包括x轴丝杠导轨运动模块、y轴同步带运动模块、z轴精密调节模块、光源对焦模块、控制机构和支撑机构，支撑机构包括台面、立柱、梁和L型连接板，立柱竖直设置于台面上，立柱与梁固定连接；x轴丝杠导轨运动模块固定设置于台面上，y轴同步带运动模块固定于梁上，与L型连接板的一端连接；L型连接板的另一端与z轴精密调节模块固定连接，z轴精密调节模块与光源对焦模块在竖直方向上滑动连接；x轴丝杠导轨运动模块和y轴同步带运动模块均与控制机构电连接。该装置实现了跨尺度微细结构的精准光刻，提高加工效率且所述移动式曝光装置成本较低，易于实现。
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