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公开(公告)号：CN114423138A
公开(公告)日：2022-04-29
申请号：CN202210204326.0
申请日：2022-03-03
Applicant: 南京工业大学
IPC: H05H1/24
Abstract: 本发明公开了一种用于产生大面积均匀等离子体的SDBD改性装置，包括SDBD电极模块、气路模块与放电限制模块，SDBD电极模块包括介质板与紧贴介质板两面的高压电极与地电极，SDBD电极模块的高压电极位于气路模块的出气口处，并完全位于放电限制模块内部；放电限制模块与气路模块将放电区域覆盖，气路模块为放置于SDBD电极模块一侧的密封可拆卸的多孔进气均气模块，进气模块通过沿放电方向减小高度与放电限制模块连接形成放电腔，该模块的一端紧贴于气路模块的出气口，用于将放电限制在出气口的前端；本发明能够实现在较小尺寸SDBD电极结构下进行较大面积的材料改性，同时保证气体与媒质分布的均匀性。
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公开(公告)号：CN116377428A
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202310333890.7
申请日：2023-03-31
Applicant: 南京工业大学
IPC: C23C16/54 , C23C16/513
Abstract: 本发明公开了一种表面介质阻挡放电沉积连续梯度薄膜的方法，包括以下步骤：步骤1：在等离子体反应器的放电区域内放置环氧树脂样品板；步骤2：以氩气为气源，通过鼓泡法将媒质聚二甲基硅氧烷带入混气腔中，并向混气腔内通入另一路单独的氩气，氩气和媒质在混气腔内混合均匀后形成工作气体；步骤3：将工作气体均匀的从环氧树脂样品板的一侧平行于环氧树脂样品板的上表面连续吹出至等离子体反应器的放电区域。通过本发明的方法可以在环氧树脂样品板上沉积一层连续梯度薄膜，薄膜致密，水平方向的沉积效果相对均匀，垂直方向的薄膜的厚度逐渐降低，进行表面改性后的环氧树脂样品板绝缘表面电气性能大大提升。
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公开(公告)号：CN117316558A
公开(公告)日：2023-12-29
申请号：CN202311343169.2
申请日：2023-10-17
Applicant: 南京工业大学
IPC: H01B19/04
Abstract: 本发明提供了一种用于盆式绝缘子表面功能梯度改性的DBD装置，DBD放电模块和气体均化模块通过绝缘介质板连接构成一体化DBD结构，绝缘介质板内部有一长条通孔，媒质进气板与一体化DBD结构固定连接，多孔分气板紧压于长条通孔上方，媒质进气板上设有媒质添加孔，多孔分气板上设有通孔阵列，通孔阵列各圆孔孔径大小由一端到另一端逐渐减小。本发明利用多孔分气板，将反应媒质以浓度梯度分布添加方式加入工作气体中，同时在工作气体作用下，将条状高压电极与条状接地电极之间的等离子体带出工作空间，作用于盆式绝缘子表面，产生反应媒质浓度梯度分布的等离子体，配合旋转装置，实现大尺度盆式绝缘子表面功能梯度化改性。
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公开(公告)号：CN114615784A
公开(公告)日：2022-06-10
申请号：CN202210208443.4
申请日：2022-03-04
Applicant: 南京工业大学
Abstract: 本发明公开了一种基于流体控制技术的耐管壁沉积等离子体射流装置，包括电源模块、工作气体源、辅助气体源、等离子体射流反应器与外辅助气路结构；混有反应媒质的工作气从介质管的气体输入口进入反应器；电极结构包括高压针电极和接地环电极；射流介质管外侧套有辅助气路，介质管上针环之间的区域设有多层微孔通道；辅助气体源的气体从外气路结构的气体输入口进入，气体流速大于工作气体，在圆孔处介质管内外压强差使沿介质管轴向排列的圆孔间区域减少薄膜沉积。本发明解决了等离子体射流进行化学气相沉积覆膜时，容易发生的射流介质管内壁薄膜沉积的问题，避免频繁更换射流介质管带来的时间浪费和高压放电安全隐患。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114496430A
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN202210135003.0
申请日：2022-02-14
Applicant: 南京工业大学
Abstract: 本发明提供了一种基于等离子体射流的表面裂纹精准修复装置和方法，气体瓶的气体通过管道分三路，每路都设有一个流量计，其中流量计A和媒质A洗气瓶串联，流量计B和媒质B洗气瓶串联，三路气体都进入混气箱，混气箱的出口和射流反应器的入口连接，射流反应器经等离子体激励源作用下发生放电，产生等离子体体羽，等离子体羽用于固定介质表面裂纹修复，媒质A为甲氧基硅烷，媒质B为去离子水。本发明基于大气压等离子体射流技术，解决固体绝缘表面裂纹修复中过盈涂敷、物理涂敷、化学修复剂在材料表面稳定性差等问题，实现对绝缘材料表面损伤的精准修复与化学愈合，延长固体绝缘介质的使用寿命，提高其运行可靠性。
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公开(公告)号：CN114496430B
公开(公告)日：2023-06-02
申请号：CN202210135003.0
申请日：2022-02-14
Applicant: 南京工业大学
Abstract: 本发明提供了一种基于等离子体射流的表面裂纹精准修复装置和方法，气体瓶的气体通过管道分三路，每路都设有一个流量计，其中流量计A和媒质A洗气瓶串联，流量计B和媒质B洗气瓶串联，三路气体都进入混气箱，混气箱的出口和射流反应器的入口连接，射流反应器经等离子体激励源作用下发生放电，产生等离子体体羽，等离子体羽用于固定介质表面裂纹修复，媒质A为甲氧基硅烷，媒质B为去离子水。本发明基于大气压等离子体射流技术，解决固体绝缘表面裂纹修复中过盈涂敷、物理涂敷、化学修复剂在材料表面稳定性差等问题，实现对绝缘材料表面损伤的精准修复与化学愈合，延长固体绝缘介质的使用寿命，提高其运行可靠性。
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公开(公告)号：CN114423138B
公开(公告)日：2023-06-02
申请号：CN202210204326.0
申请日：2022-03-03
Applicant: 南京工业大学
IPC: H05H1/24
Abstract: 本发明公开了一种用于产生大面积均匀等离子体的SDBD改性装置，包括SDBD电极模块、气路模块与放电限制模块，SDBD电极模块包括介质板与紧贴介质板两面的高压电极与地电极，SDBD电极模块的高压电极位于气路模块的出气口处，并完全位于放电限制模块内部；放电限制模块与气路模块将放电区域覆盖，气路模块为放置于SDBD电极模块一侧的密封可拆卸的多孔进气均气模块，进气模块通过沿放电方向减小高度与放电限制模块连接形成放电腔，该模块的一端紧贴于气路模块的出气口，用于将放电限制在出气口的前端；本发明能够实现在较小尺寸SDBD电极结构下进行较大面积的材料改性，同时保证气体与媒质分布的均匀性。
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公开(公告)号：CN116052964A
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202310061771.0
申请日：2023-01-16
Applicant: 南京工业大学
IPC: H01B19/04
Abstract: 本发明提供了一种用于材料表面功能梯度化改性装置和改性方法，高压电极与地电极分别紧密贴合于阻挡介质两面，阻挡介质两端连接限制板，阻挡介质表面开有样品槽，进气模块左端通过流量计、减压阀和充满氩气储气瓶相连，右端出气口位于高压电极处。通过给高压电极施加纳秒脉冲激励电源正电压，绝缘样品、阻挡介质作放电的阻挡介质，产生等离子体。同时，通入工作气体氩气，使高压电极附近产生的等离子体向绝缘样品表面迁移，通过控制激励源电压和气体流速，实现等离子体在绝缘样品表面的分布。本发明通过气体通入，对表面介质阻挡放电提供均匀性保证，提高了绝缘材料表面绝缘性能。解决成本昂贵、污染较大、操作复杂的改性应用等问题。
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公开(公告)号：CN115526899A
公开(公告)日：2022-12-27
申请号：CN202211202202.5
申请日：2022-09-29
Applicant: 南京工业大学
Abstract: 本发明公开了一种基于灰度转化大尺度等离子体膜沉积均匀性评价方法，包括对拍摄图片进行灰度处理，再经过软件得到灰度二维数据矩阵，从0~255灰度依次划分，生成多个灰度区间；基于灰度二维数据矩阵与灰度区间进行包括占比率、连续性参数以及规则性参数进行计算从而获得对该薄膜沉淀效果的评价；占比率即是指定灰度区间面积在样片总灰度区间面积上的占比，连续性是对样片图进行分割，分为多个横轴与纵轴。每个横轴或每个纵轴中符合设定灰度区间占比达到80%及以上认为此列或行为连续的；规则性是要判断符合灰度域所成图像的边缘位置方差是否超过标准，来评价边缘位置反应的均匀性。本发明能够实现对薄膜沉淀效果的快速与定量评价。
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