基于剪纸法的不可展开曲面大面积微结构制备方法及装置

    公开(公告)号:CN119221049A

    公开(公告)日:2024-12-31

    申请号:CN202411333137.9

    申请日:2024-09-24

    Abstract: 本发明公开基于剪纸法的不可展开曲面大面积微结构制备方法及装置,其中方法包括:S1、在工件的不可展开曲面形成光刻干膜层;S2、通过数字建模分析将不可展开曲面划分成多个近似于平面的可展开的小面积微元;将划分后的不可展开曲面展开,得到近似二维化的剪切图案;S3、将柔性光刻掩膜板按照剪切图案切割,切割后将其贴合至光刻干膜层表面;通过曝光、显影,在光刻干膜层上形成所需的微图案镂空;S4、向工件和阳极之间通入工作液,并向两极施加电压,在微图案镂空中电化学沉积;S5、去除光刻干膜层,在不可展开曲面上制备出大面积阵列结构或微纳图案。本发明已解决不可展开曲面上光刻精度低和难以实现微结构加工、成本高等问题。

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