公开(公告)号：CN119823835A

公开(公告)日：2025-04-15

申请号：CN202510076374.X

申请日：2025-01-17

Applicant: 南京大学

Inventor： 胡柏星 ,  王晓亮 ,  何其慧 ,  陈凡 ,  谢梦凡

IPC: C11D1/83 ,  C11D3/20 ,  C11D3/30 ,  C11D3/33 ,  C11D3/04 ,  C11D3/10 ,  C11D1/72 ,  C11D1/74 ,  C11D1/22 ,  C11D1/14 ,  C11D1/29

Abstract: 本发明公开了一种半导体级石英环清洗剂及其制备方法，涉及石英环加工技术领域。按照重量百分比包括以下组分：阴离子表面活性剂0.2～1%、非离子表面活性剂0.1～0.5%、螯合剂0.5～4%、有机溶剂1～5%、清洗增效剂1～5%，pH调节剂0.1～1%，余量为去离子水。本发明制备的清洗剂能高效去除石英环表面残留有机物、颗粒物和金属离子等污染物，不会腐蚀器件表面，清洗后有机污染物会成团聚集在清洗液表面，便于回收和清洗液的多次利用。通过阴离子和非离子表面活性剂在分子结构、电荷性质和界面行为上的协同作用可显著提高清洗效率，降低清洗剂用量。与现有半导体级清洗剂相比，本发明具有制备方法简单、对环境友好等优点，具有良好的应用前景。