公开(公告)号：CN114703536A

公开(公告)日：2022-07-05

申请号：CN202111126039.4

申请日：2021-09-24

Applicant: 南京大学

Inventor： 余思远 ,  陈华洋 ,  王济乾 ,  张子栋 ,  卢明辉 ,  陈延峰

IPC: C25D17/02 ,  C25D17/06 ,  C25D17/10 ,  C25D17/00

Abstract: 本发明提供了一种微区电镀装置及其在制备声表面波声子晶体中的应用。该装置包括直流恒流源、电镀槽、阳极板、电镀液、温控系统、搅拌系统、夹具及电镀片。电镀片上包括一个声表面波声子晶体区域及至少两个陪镀区域；陪镀区域对称分布在声表面波声子晶体区域的两侧。本发明采用电化学沉积(电镀)法，可以精确制备基于多类单晶、多晶及非晶基底(如铌酸锂、钽酸锂、硅、二氧化硅、氮化铝、氮化镓、玻璃等)的金属材料(如镍、铜、金等)基的声表面波声子晶体。

公开(公告)号：CN114703536B

公开(公告)日：2023-12-05

申请号：CN202111126039.4

申请日：2021-09-24

Applicant: 南京大学

Inventor： 余思远 ,  陈华洋 ,  王济乾 ,  张子栋 ,  卢明辉 ,  陈延峰

IPC: C25D17/02 ,  C25D17/06 ,  C25D17/10 ,  C25D17/00

Abstract: 本发明提供了一种微区电镀装置及其在制备声表面波声子晶体中的应用。该装置包括直流恒流源、电镀槽、阳极板、电镀液、温控系统、搅拌系统、夹具及电镀片。电镀片上包括一个声表面波声子晶体区域及至少两个陪镀区域；陪镀区域对称分布在声表面波声子晶体区域的两侧。本发明采用电化学沉积(电镀)法，可以精确制备基于多类单晶、多晶及非晶基底(如铌酸锂、钽酸锂、硅、二氧化硅、氮化铝、氮化镓、玻璃等)的金属材料(如镍、铜、金等)基的声表面波声子晶体。(56)对比文件Oudich, M 等.Photonic analog ofbilayer graphene《.PHYSICAL REVIEW B》.2021,第103卷(第21期),摘要.Aurélie Lecestre 等.Electroplated Nimask for plasma etching of submicron-sized features in LiNbO3《.MicroelectronicEngineering》.2013,第105卷95-98.Erik Brachmann 等.Pt-wire bondingoptimization for electroplated Pt filmson γ-Al2O3 for high temperature andharsh environment applications《.Sensors &Actuators: A. Physical》.2018,第284卷129-134.