一种用钴掺杂增强铜镀层的电镀方法

    公开(公告)号:CN107858722A

    公开(公告)日:2018-03-30

    申请号:CN201711261371.5

    申请日:2017-12-04

    CPC classification number: C25D3/58

    Abstract: 本发明涉及一种用钴掺杂增强铜镀层的电镀方法,以柠檬酸盐作为主要络合剂、硫酸铵为辅助络合剂、钴为掺杂元素的铜电镀液,电镀采用紫铜板为阳极,纯铜片为阴极,用直流稳压电源为工作电源,控制电沉积时的电流密度为1A/dm2,在室温和磁力搅拌的条件下电镀铜。该电镀液中使用的柠檬酸盐无毒,对环境无污染,成本低廉。该方法工艺简单,易于实施,工艺重复性好,镀层力学强度高。

    一种无氰电镀纳米晶铜用电镀液及其使用方法

    公开(公告)号:CN106835212B

    公开(公告)日:2019-07-16

    申请号:CN201710195613.9

    申请日:2017-03-29

    Abstract: 本发明公开了一种无氰电镀纳米晶铜用电镀液及其使用方法。无氰电镀纳米晶铜用电镀液中五水硫酸铜的含量为180-220g/L,柠檬酸钠为188-352g/L和硫酸铵为45g/L,用氢氧化钠调节PH值为7.6-10.5。该发明中使用的柠檬酸盐无毒,对环境无污染,成本低廉。本发明所提出的电解液配方和使用工艺操作简单、易于实施、产物力学强度高。

    一种无氰电镀纳米晶铜用电镀液及其使用方法

    公开(公告)号:CN106835212A

    公开(公告)日:2017-06-13

    申请号:CN201710195613.9

    申请日:2017-03-29

    CPC classification number: C25D3/38

    Abstract: 本发明公开了一种无氰电镀纳米晶铜用电镀液及其使用方法。无氰电镀纳米晶铜用电镀液中五水硫酸铜的含量为180-220g/L,柠檬酸钠为188-352g/L和硫酸铵为45g/L,用氢氧化钠调节PH值为7.6-10.5。该发明中使用的柠檬酸盐无毒,对环境无污染,成本低廉。本发明所提出的电解液配方和使用工艺操作简单、易于实施、产物力学强度高。

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