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公开(公告)号：CN102849745A
公开(公告)日：2013-01-02
申请号：CN201210358683.9
申请日：2012-09-24
申请人： 华陆工程科技有限责任公司
IPC分类号： C01B33/107
摘要： 本发明提供一种用于三氯氢硅生产的除尘工艺及系统，来自流化床的含尘反应气体首先进入文丘里洗涤器进行洗涤，洗涤后的气液两相在气液分离罐中分离，气体自洗涤塔下部的气体进口进入洗涤塔，液体自洗涤塔下部的液体进口进入洗涤塔；经过洗涤净化后的气体由洗涤塔上部的气体出口排出，出洗涤塔的气体经冷凝器冷凝，一部分凝液作为洗涤塔的洗涤液由顶部重新进入洗涤塔，另外一部分凝液送往精馏装置；含高浓度硅粉、金属氯化物和高沸物的渣浆由浆料口排出。本发明提供的除尘工艺及系统对旋风除尘后的反应气体进行了进一步的处理，反应气体中含有的高沸物、金属氯化物以及微量的细小硅粉在该装置中被除去，使得反应气体在进入冷凝系统时不会堵塞管道和设备，减轻了三氯氢硅中金属氯化物和高沸物的污染，并为装置的连续稳定运行提供了保障。
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公开(公告)号：CN103058195B
公开(公告)日：2014-10-22
申请号：CN201310023112.4
申请日：2013-01-22
申请人： 华陆工程科技有限责任公司
IPC分类号： C01B33/03
摘要： 本发明提供一种用于多晶硅生产提高还原沉积反应效率的方法，二氯二氢硅和三氯氢硅液体采用独立的汽化器和过热器，分别进行汽化和过热；过热后的三氯氢硅气体、二氯二氢硅气体及高纯氢气通过各自的流量控制单元分阶段以合适的流量进入静态混合器中混合，混合后的气体进入混合气体温度控制单元，分阶段控制混合气体温度，输送至还原沉积反应器，在沉积反应器内的硅棒表面发生反应生成多晶硅。该方法不仅能提高还原沉积反应的效率，而且有效控制沉积反应过程中不定型硅的产生，避免不定型硅堵塞下游装置的管道和设备，同时实现二氯二氢硅在多晶硅生产中密闭循环，避免了二氯二氢硅与四氯化硅反歧化装置的设置。
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公开(公告)号：CN102849745B
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201210358683.9
申请日：2012-09-24
申请人： 华陆工程科技有限责任公司
IPC分类号： C01B33/107
摘要： 本发明提供一种用于三氯氢硅生产的除尘工艺及系统，来自流化床的含尘反应气体首先进入文丘里洗涤器进行洗涤，洗涤后的气液两相在气液分离罐中分离，气体自洗涤塔下部的气体进口进入洗涤塔，液体自洗涤塔下部的液体进口进入洗涤塔；经过洗涤净化后的气体由洗涤塔上部的气体出口排出，出洗涤塔的气体经冷凝器冷凝，一部分凝液作为洗涤塔的洗涤液由顶部重新进入洗涤塔，另外一部分凝液送往精馏装置；含高浓度硅粉、金属氯化物和高沸物的渣浆由浆料口排出。本发明提供的除尘工艺及系统对旋风除尘后的反应气体进行了进一步的处理，反应气体中含有的高沸物、金属氯化物以及微量的细小硅粉在该装置中被除去，使得反应气体在进入冷凝系统时不会堵塞管道和设备，减轻了三氯氢硅中金属氯化物和高沸物的污染，并为装置的连续稳定运行提供了保障。
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公开(公告)号：CN103058195A
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：CN201310023112.4
申请日：2013-01-22
申请人： 华陆工程科技有限责任公司
IPC分类号： C01B33/03
摘要： 本发明提供一种用于多晶硅生产提高还原沉积反应效率的方法，二氯二氢硅和三氯氢硅液体采用独立的汽化器和过热器，分别进行汽化和过热；过热后的三氯氢硅气体、二氯二氢硅气体及高纯氢气通过各自的流量控制单元分阶段以合适的流量进入静态混合器中混合，混合后的气体进入混合气体温度控制单元，分阶段控制混合气体温度，输送至还原沉积反应器，在沉积反应器内的硅棒表面发生反应生成多晶硅。该方法不仅能提高还原沉积反应的效率，而且有效控制沉积反应过程中不定型硅的产生，避免不定型硅堵塞下游装置的管道和设备，同时实现二氯二氢硅在多晶硅生产中密闭循环，避免了二氯二氢硅与四氯化硅反歧化装置的设置。
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公开(公告)号：CN101780957A
公开(公告)日：2010-07-21
申请号：CN201010013644.6
申请日：2010-01-21
申请人： 华陆工程科技有限责任公司
IPC分类号： C01B33/107 , C01B33/03
摘要： 本发明提供一种三氯氢硅的精制方法，根据气相沉积法制造多晶硅时，把从还原炉排出的气体中得到的二氯硅烷、三氯氢硅及四氯化硅的液体通过精馏塔，其特征是在塔顶部提取出二氯硅烷，同时通过侧线提取三氯氢硅和四氯化硅，测定上述精馏塔塔顶部和任意的中段温度T，为了使测定的中段温度T保持在一定的范围内，控制塔顶部的回流量R，当中段温度T上升时，增加回流量R，当中段温度T下降时，减少回流量R。伴随着氯硅烷液的组成变动，防止三氯氢硅，四氯化硅纯度的降低。
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公开(公告)号：CN201148405Y
公开(公告)日：2008-11-12
申请号：CN200820028019.7
申请日：2008-01-03
申请人： 华陆工程科技有限责任公司
IPC分类号： C07C211/03 , C07C209/02 , B01J8/04
摘要： 本实用新型涉及一种甲醇胺化反应器，包括壳体、反应气体进口和反应气体出口，在壳体内设有中心管，2层催化剂床层，在中心管顶部设有槽型分布器，槽型分布器具有4－8个条形槽且沿圆周均布，条形槽长100－300mm，宽70－100mm。壳体上有冷激进料口，冷激进料口位于2层催化剂床层之间。反应气体出口位于反应器下部。本实用新型能使反应原料气在反应器中分布均匀，有效地利用了反应热，成功的解决了单台反应器放大之后的径向及轴向的温度不均衡情况，反应器操作稳定，实现了装置大型化，可用于年产10万吨以上甲胺规模装置中。
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公开(公告)号：CN203451229U
公开(公告)日：2014-02-26
申请号：CN201320588654.1
申请日：2013-09-23
申请人： 华陆工程科技有限责任公司
IPC分类号： C01B33/107
摘要： 本实用新型提供一种新型的四氯化硅汽化装置，包括静态混合器、汽化器，汽化器壳体上设有混合物料进口，该进口为插入管型式，内伸到汽化器中加热管的下方，并在插入管上开有分布孔。经静态混合器混合后的物料由混合物料进口进入汽化器，氢气在四氯化硅液相中鼓泡促使四氯化硅汽化，得到四氯化硅和氢气的混合气。本实用新型提供的汽化装置具有汽化温度低、安全性高、投资低、设备使用寿命长等优点，为装置的连续稳定运行提供了保障。
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公开(公告)号：CN202785677U
公开(公告)日：2013-03-13
申请号：CN201220489930.4
申请日：2012-09-24
申请人： 华陆工程科技有限责任公司
IPC分类号： C01B33/107
摘要： 本实用新型涉及一种用于三氯氢硅生产的除尘系统，包括洗涤塔和洗涤塔顶部的冷凝器，还包括文丘里洗涤器、气液分离罐和循环泵，气液分离罐一端与文丘里洗涤器连接，另外两端分别与气体进口和液体进口连接；循环泵一端与文丘里洗涤器连接，另一端与液体出口连接。其中洗涤塔上部的直径小于下部的直径，上部为穿流板和筛板相结合的结构型式，下部设有内件挡板。本实用新型提供的除尘系统对旋风除尘后的反应气体进行了进一步的处理，反应气体中含有的高沸物、金属氯化物以及微量的细小硅粉在该装置中被除去，使得反应气体在进入冷凝系统时不会堵塞管道和设备，减轻了三氯氢硅中金属氯化物和高沸物的污染，并为装置的连续稳定运行提供了保障。
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公开(公告)号：CN201634438U
公开(公告)日：2010-11-17
申请号：CN201020020516.X
申请日：2010-01-21
申请人： 华陆工程科技有限责任公司
IPC分类号： C01B33/107 , C01B33/03
摘要： 本实用新型提供一种精制三氯氢硅的装置，只使用一个精馏塔，在精馏塔顶设有冷凝器，在精馏塔底部设有再沸器，在塔顶设有温度计，在侧线设有两个温度计。本实用新型只使用一个精馏塔就可以从还原炉排出的气体中稳定地回收高纯度的二氯硅烷、三氯氢硅的混合物和四氯化硅，和以往必须使用两个或三个精馏塔相比，可以将设备成本和长期成本减半，发生故障的可能性也会减半，因此在制品成本方面的效果很大。
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公开(公告)号：CN201148406Y
公开(公告)日：2008-11-12
申请号：CN200820028020.X
申请日：2008-01-03
申请人： 华陆工程科技有限责任公司
IPC分类号： C07C233/03 , C07C231/10
摘要： 本实用新型提供一种二甲基甲酰胺反应器，包括气液反应器，液体出口和气体出口，在反应器内设有环形层状进气管道以及安装于进气管道上的气体分布器，气体分布器与进气管道相适应，在反应器上端设有双层除雾器，溶液循环口和二甲胺/催化剂进口分别位于反应器两侧。采用上述结构可以使气体均匀分散成很多细小的气泡，与溶液充分接触，加大气液接触比表面积，提高了一氧化碳的转化率，可用于年产10万吨以上二甲基甲酰胺规模装置中。
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