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公开(公告)号：CN115070694A
公开(公告)日：2022-09-20
申请号：CN202210848670.3
申请日：2022-07-19
申请人： 华芯半导体科技有限公司 , 华芯半导体研究院(北京)有限公司
IPC分类号： B25B27/14
摘要： 本申请公开了一种安装装置及安装工具，用于将尾气收集圈安装于金属有机化学气相沉积系统的反应腔内，所述安装装置包括：杆体；托板，设于所述杆体上，并具有承托所述尾气收集圈的伸展状态和解除该承托效果的收缩状态；驱动组件，设于所述杆体上，用于驱使所述托板在伸展状态和收缩状态之间切换。本申请实施例的安装装置，其在尾气收集圈和反应腔的腔壁之间移动时，可以通过收缩托板来解决安装装置因托板尺寸过大而导致安装装置无法使用的问题，同时，由于托板可收缩的特点，可以保证托板具有足够的尺寸，避免因托板尺寸过小而导致的尾气收集圈容易脱落的风险。
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公开(公告)号：CN114284191A
公开(公告)日：2022-04-05
申请号：CN202210195053.8
申请日：2022-03-02
申请人： 华芯半导体研究院(北京)有限公司 , 华芯半导体科技有限公司
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/687
摘要： 本发明提供一种片盒及其承载装置和取放装置、半导体处理设备，承载装置包括相对间隔设置的多个承载组件以及至少一个升降机构，多个承载组件用于活动设置在片盒内；升降机构与多个承载组件连接，升降机构能够使得多个承载组件升降，以调整多个承载组件之间的距离。本发明的承载装置可以通过调整多个承载组件之间的距离，很好的解决从片盒的承载装置中取放晶片时避免对晶片表面造成划痕、脏污、磕碰损伤、错位放入，对晶片表面有效的保护，避免造成损伤。
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公开(公告)号：CN114199031A
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN202210154369.2
申请日：2022-02-21
申请人： 华芯半导体研究院(北京)有限公司 , 华芯半导体科技有限公司
摘要： 本申请公开了一种石墨盘烘烤夹具及烘烤装置，所述石墨盘烘烤夹具包括烘烤架(1)，所述烘烤架(1)上安装有多个横梁(2)，每个所述横梁(2)上均设有凹槽(3)，对应所述凹槽(3)构成石墨盘(7)的圆周边；所述烘烤架(1)上还设有两组平行相对的长通孔(4)，所述横梁(2)的两端分别设于一所述长通孔(4)内，在外力作用下，所述横梁(2)旋转和/或沿所述长通孔(4)移动，以调整所述圆周边的半径。本申请实施例的石墨盘烘烤夹具，其烘烤架上设有可供横梁移动和选择的长通孔，横梁能够通过旋转和/或移动来调整支撑角度和支撑位置，从而可以适用于不同半径长度和不同形状的石墨盘。
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公开(公告)号：CN113818076B
公开(公告)日：2022-03-15
申请号：CN202111384254.4
申请日：2021-11-19
申请人： 华芯半导体研究院(北京)有限公司 , 华芯半导体科技有限公司
摘要： 本发明提供一种承载装置及气相外延设备，属于半导体设备技术领域，该承载装置用于在前置真空腔室和反应腔室之间传输工件，前置真空腔室内设置有第一平移驱动机构，承载装置包括托盘组件、第二平移驱动机构和连接件；第二平移驱动机构设置在托盘组件的背面，第二平移驱动机构通过连接件可移动地设置在第一平移驱动机构中；并且，第一平移驱动机构驱动托盘组件沿第一方向平移，第二平移驱动机构驱动托盘组件沿第二方向平移，第一方向与第二方向不同。本发明的承载装置可使托盘组件在不同的方向平移，实现了反应腔室内维护所涉及工件的一次性进出，大大提高了工作效率，也降低了因多次进出而导致的工件破损的风险。
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公开(公告)号：CN113340180B
公开(公告)日：2021-11-09
申请号：CN202110889862.4
申请日：2021-08-04
申请人： 华芯半导体研究院(北京)有限公司 , 华芯半导体科技有限公司
摘要： 本发明公开了用于MOCVD设备反应腔的测量装置。该测量装置包括环形底座、活动架杆和测量组件，环形底座包括开口朝上的第一凹槽和开口朝下的第二凹槽，第一凹槽包括上下设置的第一环腔和第二环腔，第二凹槽与MOCVD设备反应腔的环形壁固定；活动架杆的滚轮设在第二环腔内，连接杆设在第一环腔内，刻度杆的两端通过连接杆与滚轮相连；测量组件包括垂直相连的千分表和深度尺，深度尺测杆可沿第一固定组件上下移动且可通过第一固定组件沿刻度杆水平移动，千分表可通过水平固定杆和第二固定组件随深度尺测杆上下移动。该装置将深度尺与千分尺固定于可平面360度自由旋转的活动架杆上，能实现反应腔内任何位置的数据测量并保证测量位置一致性及测量精度。
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公开(公告)号：CN113340180A
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN202110889862.4
申请日：2021-08-04
申请人： 华芯半导体研究院(北京)有限公司 , 华芯半导体科技有限公司
摘要： 本发明公开了用于MOCVD设备反应腔的测量装置。该测量装置包括环形底座、活动架杆和测量组件，环形底座包括开口朝上的第一凹槽和开口朝下的第二凹槽，第一凹槽包括上下设置的第一环腔和第二环腔，第二凹槽与MOCVD设备反应腔的环形壁固定；活动架杆的滚轮设在第二环腔内，连接杆设在第一环腔内，刻度杆的两端通过连接杆与滚轮相连；测量组件包括垂直相连的千分表和深度尺，深度尺测杆可沿第一固定组件上下移动且可通过第一固定组件沿刻度杆水平移动，千分表可通过水平固定杆和第二固定组件随深度尺测杆上下移动。该装置将深度尺与千分尺固定于可平面360度自由旋转的活动架杆上，能实现反应腔内任何位置的数据测量并保证测量位置一致性及测量精度。
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公开(公告)号：CN113818076A
公开(公告)日：2021-12-21
申请号：CN202111384254.4
申请日：2021-11-19
申请人： 华芯半导体研究院(北京)有限公司 , 华芯半导体科技有限公司
摘要： 本发明提供一种承载装置及气相外延设备，属于半导体设备技术领域，该承载装置用于在前置真空腔室和反应腔室之间传输工件，前置真空腔室内设置有第一平移驱动机构，承载装置包括托盘组件、第二平移驱动机构和连接件；第二平移驱动机构设置在托盘组件的背面，第二平移驱动机构通过连接件可移动地设置在第一平移驱动机构中；并且，第一平移驱动机构驱动托盘组件沿第一方向平移，第二平移驱动机构驱动托盘组件沿第二方向平移，第一方向与第二方向不同。本发明的承载装置可使托盘组件在不同的方向平移，实现了反应腔室内维护所涉及工件的一次性进出，大大提高了工作效率，也降低了因多次进出而导致的工件破损的风险。
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公开(公告)号：CN115783477B
公开(公告)日：2024-02-23
申请号：CN202211560676.7
申请日：2022-12-07
申请人： 华芯半导体科技有限公司 , 华芯半导体研究院(北京)有限公司
摘要： 本发明公开了一种MO源瓶固定装置及MO源瓶温控装置，所述MO源瓶固定装置包括槽体、支撑件和至少两个固定组件，支撑件和固定组件均位于槽体的容纳腔中，固定组件包括承托固定板和连接杆，连接杆的外端铰接在槽体上，连接杆的内端与承托固定板铰接，支撑件连接每个承托固定板，多个承托固定板和支撑件围成能够容纳MO源瓶的容纳空间，支撑件能够伸缩，以使得连接杆围绕其外端转动时，承托固定板能够相互接近或者远离。本发明提供的MO源瓶固定装置及MO源瓶温控装置可保证在使用不同规格的源瓶、在不同安装情形下的稳定性要求，保证了源瓶使用过程中外部稳定，达到出源稳定的目的。
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公开(公告)号：CN113970750A
公开(公告)日：2022-01-25
申请号：CN202111584552.8
申请日：2021-12-23
申请人： 华芯半导体研究院(北京)有限公司 , 华芯半导体科技有限公司
摘要： 本申请公开了一种测量装置及手套箱，所述测量装置包括：检测模块(1)，用于检测第一待测面(61)上不同点到检测面(11)的距离；所述检测模块(1)设置在外壳(4)内部，外壳(4)内还设有可移动的第一待测物(6)，所述第一待测物(6)具有所述第一待测面(61)；读出/示出模块，用于读出/示出所述第一待测面(61)上不同点到检测面(11)的距离。本申请实施例的测量装置，能够检测待测平面或具有该平面的基体的设置情况，而且检测信息可以读出或示出，相对于肉眼检测，当用于手套箱等具有不易从外部观察的外壳内，可以避免外壳对视觉的影响，检测精度得到保证。
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公开(公告)号：CN113839308A
公开(公告)日：2021-12-24
申请号：CN202111417176.3
申请日：2021-11-26
申请人： 华芯半导体研究院(北京)有限公司 , 华芯半导体科技有限公司
IPC分类号： H01S5/183
摘要： 本发明公开了具有非氧化型电流限制层的VCSEL芯片及其制备方法，所述VCSEL芯片包括GaAs衬底、在所述GaAs衬底上依次生长的N型布拉格反射镜和谐振腔、设置在对应非出光区域的所述谐振腔表面的非氧化型电流限制层、设置在所述非氧化型电流限制层以及对应出光区域的所述谐振腔表面的第一P型布拉格反射镜、设置在所述第一P型布拉格反射镜表面的P接触层、设置在所述P接触层上的P电极以及设置在所述GaAs衬底下表面的N电极。本发明解决了高铝材料氧化后由于应力变化、热膨胀系数变化容易产生缺陷，从而造成芯片性能下降以及寿命缩短的问题，由此进一步提高了芯片的性能以及延长了芯片的寿命。
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