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公开(公告)号：CN108879322A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201810620451.3
申请日：2018-06-15
Applicant: 华侨大学
IPC: H01S5/10
Abstract: 本发明提供了一种基于金属微腔的半导体激光器及其制作方法，包括第一硅衬底、金属反射镜以及依次设置于所述硅衬底上的环氧树脂层、金属膜、金属层、绝缘介质层、有源层；所述金属反射镜的一端穿过所述有源层及绝缘介质层与所述金属膜抵接，所述金属反射镜的另一端暴露于空气中，所述金属层和金属反射镜组成一金属腔，作为半导体激光器的光学谐振腔。应用本技术方案可实现金属腔损耗小，不仅可以提高微腔的品质因子还可以降低激光的振荡阈值。
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公开(公告)号：CN107959224B
公开(公告)日：2023-06-20
申请号：CN201810007648.X
申请日：2018-01-04
Applicant: 华侨大学
Abstract: 本发明公开了一种基于金属腔的表面等离激元激光器，包括表面等离激元波导和金属腔。本发明的金属腔是利用刻蚀技术嵌入在表面等离激元波导中作为激光器的谐振腔，因此金属腔的形状和尺寸可精确控制。由于金属腔的腔镜对腔中表面等离激元模式的反射率超过90％，使得金属腔中表面等离激元激光的Q值高达1170。本发明的表面等离激元激光器采用金属腔作为激光器的谐振腔，具有物理尺寸小、品质因数大、形状和尺寸可精确控制、制备工艺简单成熟、室温工作，可与电子芯片兼容等优点。
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公开(公告)号：CN108879322B
公开(公告)日：2023-05-09
申请号：CN201810620451.3
申请日：2018-06-15
Applicant: 华侨大学
IPC: H01S5/10
Abstract: 本发明提供了一种基于金属微腔的半导体激光器及其制作方法，包括第一硅衬底、金属反射镜以及依次设置于所述硅衬底上的环氧树脂层、金属膜、金属层、绝缘介质层、有源层；所述金属反射镜的一端穿过所述有源层及绝缘介质层与所述金属膜抵接，所述金属反射镜的另一端暴露于空气中，所述金属层和金属反射镜组成一金属腔，作为半导体激光器的光学谐振腔。应用本技术方案可实现金属腔损耗小，不仅可以提高微腔的品质因子还可以降低激光的振荡阈值。
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公开(公告)号：CN107959224A
公开(公告)日：2018-04-24
申请号：CN201810007648.X
申请日：2018-01-04
Applicant: 华侨大学
Abstract: 本发明公开了一种基于金属腔的表面等离激元激光器，包括表面等离激元波导和金属腔。本发明的金属腔是利用刻蚀技术嵌入在表面等离激元波导中作为激光器的谐振腔，因此金属腔的形状和尺寸可精确控制。由于金属腔的腔镜对腔中表面等离激元模式的反射率超过90％，使得金属腔中表面等离激元激光的Q值高达1170。本发明的表面等离激元激光器采用金属腔作为激光器的谐振腔，具有物理尺寸小、品质因数大、形状和尺寸可精确控制、制备工艺简单成熟、室温工作，可与电子芯片兼容等优点。
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公开(公告)号：CN208352708U
公开(公告)日：2019-01-08
申请号：CN201820933179.X
申请日：2018-06-15
Applicant: 华侨大学
IPC: H01S5/10
Abstract: 本实用新型提供了一种基于金属微腔的半导体激光器，包括第一硅衬底、金属反射镜以及依次设置于所述硅衬底上的环氧树脂层、金属膜、金属层、绝缘介质层、有源层；所述金属反射镜的一端穿过所述有源层及绝缘介质层与所述金属膜抵接，所述金属反射镜的另一端暴露于空气中，所述金属层和金属反射镜组成一金属腔，作为半导体激光器的光学谐振腔。应用本技术方案可实现金属腔损耗小，不仅可以提高微腔的品质因子还可以降低激光的振荡阈值。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN207938961U
公开(公告)日：2018-10-02
申请号：CN201820011680.0
申请日：2018-01-04
Applicant: 华侨大学
Abstract: 本实用新型公开了一种基于金属腔的表面等离激元激光器，包括表面等离激元波导和金属腔。本实用新型的金属腔是利用刻蚀技术嵌入在表面等离激元波导中作为激光器的谐振腔，因此金属腔的形状和尺寸可精确控制。由于金属腔的腔镜对腔中表面等离激元模式的反射率超过90％，使得金属腔中表面等离激元激光的Q值高达1170。本实用新型的表面等离激元激光器采用金属腔作为激光器的谐振腔，具有物理尺寸小、品质因数大、形状和尺寸可精确控制、制备工艺简单成熟、室温工作，可与电子芯片兼容等优点。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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