-
公开(公告)号：CN115008900A
公开(公告)日：2022-09-06
申请号：CN202210523351.5
申请日：2022-05-13
Applicant: 华中科技大学
IPC: B41J2/07 , B41J3/407 , B41J29/393 , G05B13/02 , G06F17/10
Abstract: 本发明属于柔性显示技术领域，具体涉及一种柔性显示喷印薄膜边缘直线度控制方法和系统，包括：在打印用各输入参数的有效范围内，调整输入参数并控制液膜试打印，使得液膜厚度达到液膜要求；采集液膜边缘轮廓图片，用以计算当前输入参数下液膜边缘直线度参数，若直线度参数未到达直线度约束，修正输入参数继续控制试打印，直至达到直线度约束，得到最优输入参数；采用最优输入参数控制正式打印，完成喷印薄膜边缘直线度控制；其中，直线度参数包括：幅度参数，最大宽度参数，间距特征参数，以及轮廓长度率。本发明在喷墨试打印阶段获得使得液膜边缘直线度均满足要求的最优输入参数，并应用于正式打印中，从而获取高质量的液膜。
-
公开(公告)号：CN113947660A
公开(公告)日：2022-01-18
申请号：CN202111121064.3
申请日：2021-09-24
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种适用于喷墨打印的微墨滴沉积过程观测方法，具体为：将微墨滴的沉积过程按时间顺序分为多个状态，针对每个状态设定对应的相机曝光时间及延时；向基板喷印微墨滴，启用双目相机采集预定状态下的微墨滴沉积图像，启用下视相机采集微墨滴沉积铺展后图像，得到喷印过程完整图像序列；对完整图像序列提取运动目标，进而进行三维重建，由此完成微墨滴沉积过程观测。本发明还提供了实现上述方法的装置。通过本发明，可以实现普通工业相机高帧率采图，完成多角度的微墨滴高动态实时观测与捕捉、微墨滴撞击像素坑的均匀成膜过程捕获，实现了低成本、高精度的微墨滴高动态变化的沉积过程观测。
-
公开(公告)号：CN109285802B
公开(公告)日：2021-01-05
申请号：CN201810991566.3
申请日：2018-08-29
Applicant: 华中科技大学
IPC: H01L21/677 , H01L27/15
Abstract: 本发明属于半导体技术领域，并具体公开了一种基于双向扩晶法的微器件巨量转移装置及方法，包括微器件剥离转移模块、X向扩晶模块、过渡承接模块、Y向扩晶模块、目标基板承载模块、微器件补缺模块、固化模块、封装模块和目标基板搬运模块，微器件剥离转移模块用于剥离微器件；X向扩晶模块用于将微器件沿晶元盘的X向扩晶；过渡承接模块用于将晶元盘旋转90度；Y向扩晶模块用于将微器件沿晶元盘的Y向扩晶；目标基板承载模块用于接收微器件并将目标基板送入微器件补缺模块、固化模块、封装模块、基板搬运模块中，实现补缺、固化、封装及上下料。通过本发明，利用卷绕工艺实现微器件的巨量转移，具有生产效率高、生产成本低等优点。
-
公开(公告)号：CN113947660B
公开(公告)日：2024-07-19
申请号：CN202111121064.3
申请日：2021-09-24
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种适用于喷墨打印的微墨滴沉积过程观测方法，具体为：将微墨滴的沉积过程按时间顺序分为多个状态，针对每个状态设定对应的相机曝光时间及延时；向基板喷印微墨滴，启用双目相机采集预定状态下的微墨滴沉积图像，启用下视相机采集微墨滴沉积铺展后图像，得到喷印过程完整图像序列；对完整图像序列提取运动目标，进而进行三维重建，由此完成微墨滴沉积过程观测。本发明还提供了实现上述方法的装置。通过本发明，可以实现普通工业相机高帧率采图，完成多角度的微墨滴高动态实时观测与捕捉、微墨滴撞击像素坑的均匀成膜过程捕获，实现了低成本、高精度的微墨滴高动态变化的沉积过程观测。
-
公开(公告)号：CN109256350B
公开(公告)日：2020-09-18
申请号：CN201810991541.3
申请日：2018-08-29
Applicant: 华中科技大学
IPC: H01L21/677 , H01L33/00
Abstract: 本发明属于半导体技术领域，并具体公开了一种基于逐级均匀扩展的微器件巨量转移装置及方法，包括微器件剥离转移模块、初级搬运模块、初级扩晶转印模块、次级搬运模块、次级扩晶转印模块、基板承载模块、微器件补缺模块、固化模块、封装模块和基板搬运模块，上述各模块分别用于将微器件转移至初级承载基板、将初级承载基板搬运至初级扩晶转印模块、实现微器件的初次扩晶转印、将次级承载基板搬运至次级扩晶转印模块、实现第二次扩晶转印、将微器件送入补缺模块、固化模块、封装模块、基板搬运模块中实现补缺、固化、封装及上下料。通过本发明，利用多级扩晶转移工艺实现了微器件的巨量转移，有效的提高了生产效率，降低了生产成本。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109285802A
公开(公告)日：2019-01-29
申请号：CN201810991566.3
申请日：2018-08-29
Applicant: 华中科技大学
IPC: H01L21/677 , H01L27/15
Abstract: 本发明属于半导体技术领域，并具体公开了一种基于双向扩晶法的微器件巨量转移装置及方法，包括微器件剥离转移模块、X向扩晶模块、过渡承接模块、Y向扩晶模块、目标基板承载模块、微器件补缺模块、固化模块、封装模块和目标基板搬运模块，微器件剥离转移模块用于剥离微器件；X向扩晶模块用于将微器件沿晶元盘的X向扩晶；过渡承接模块用于将晶元盘旋转90度；Y向扩晶模块用于将微器件沿晶元盘的Y向扩晶；目标基板承载模块用于接收微器件并将目标基板送入微器件补缺模块、固化模块、封装模块、基板搬运模块中，实现补缺、固化、封装及上下料。通过本发明，利用卷绕工艺实现微器件的巨量转移，具有生产效率高、生产成本低等优点。
-
公开(公告)号：CN107253633A
公开(公告)日：2017-10-17
申请号：CN201710430502.1
申请日：2017-06-09
Applicant: 华中科技大学
IPC: B65H23/188 , B65H23/195 , B65H26/04 , B65H26/08
CPC classification number: B65H23/1888 , B65H23/195 , B65H26/04 , B65H26/08 , B65H2515/314 , B65H2515/34 , B65H2515/70 , B65H2515/708 , B65H2553/24 , B65H2553/80 , B65H2557/264 , B65H2220/01 , B65H2220/03
Abstract: 本发明属于柔性电子收卷控制相关技术领域，并公开了一种面向变截面柔性电子的恒应力收卷控制系统，其包括张力传感器、张力控制器、卷径传感器、内应力测量装置、内应力控制器和执行件等；其中卷径传感器用于实现料卷外径的测量；张力传感器用于检测薄膜张力并反馈给张力控制器实现张力的闭环控制；内应力测量装置包括一组压力传感器、导电滑环以及若干固定零件，并用于实现料卷内部应力分布状态的测量并将其馈给张力控制器，实现料卷内部应力的闭环控制。本发明还公开了相应的收卷控制工艺。通过本发明，能够以更为高效和高精度的方式实现料卷内部应力分布状态的检测，并实现料卷内部应力均匀分布，提高料卷的质量。
-
公开(公告)号：CN118585147A
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN202410616710.0
申请日：2024-05-17
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于印刷显示技术领域，具体涉及一种用于新型显示的阵列喷头喷印规划方法，包括：根据阵列喷头中每个喷头的喷孔排列位置关系，结合该喷头的定位坐标以及相对Y向的角度，计算该喷头中各喷孔的实际坐标以及相对其无偏角标准坐标的坐标偏差；根据阵列喷头的喷头型号以及喷头拼接形式，确定阵列喷头触发喷射的落点检测图案，并对应得到所有喷孔的触发时序；基于所有喷孔的X向坐标偏差，调整触发时序，补偿每个喷孔的X向位置偏差，试打印筛选落点偏差满足要求的可用喷孔；基于各可用喷孔的实际坐标、坐标偏差和落点偏差，修正正式打印规划，完成阵列喷头喷印规划方法。本发明方法能在阵列喷头喷印规划中实现阵列喷头的统一补偿。
-
公开(公告)号：CN110614848B
公开(公告)日：2020-09-18
申请号：CN201910917396.9
申请日：2019-09-26
Applicant: 华中科技大学
IPC: B41J2/045 , B41J29/393
Abstract: 本发明属于电流体动力喷印相关技术领域，并公开了一种用于电流体动力喷印的轨迹诱导沉积控制系统，其包括电流体动力喷印模块、视觉监测模块、系统控制模块、轨迹诱导沉积模块等多个功能模块；其中视觉监测模块用于获取墨滴的飞行轨迹、判断飞行速度与方向、观测落点、观测沉积形貌；系统控制模块用于实时控制诱导辅助电极背板的电极信号变化，以实现墨滴轨迹诱导及形态控制；轨迹诱导沉积模块则用于根据沉积图案设计辅助电极阵列分布，电场变化时调整墨滴轨迹朝目标落点飞行，同时在靠近落点时使墨滴能减速并平稳沉积。通过本发明，可进行精确的墨滴轨迹诱导并平稳沉积，能防止墨滴偏移、摊开、飞溅等，实现高精度、高质量电流体动力喷印。
-
公开(公告)号：CN107121107B
公开(公告)日：2019-04-12
申请号：CN201710504632.5
申请日：2017-06-28
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于张力检测技术领域，并公开了一种薄膜张力测量装置，包括位置调节模块、力放大模块、滚轮自重平衡模块、转速测量模块、人机交互模块与信号测量处理模块，其中位置调节模块实现滚轮下压位置与下压量调节，力放大模块用于放大滚轮受到的推力并传递给推力传感器，滚轮自重平衡模块用于平衡整个转速测量模块的自重，转速检测模块用于实现薄膜进给速度的检测，人机交互模块用于实现设定参数的输入，信号测量处理模块则用于将检测到的滚轮上的推力换算为薄膜张力。本发明还公开了相应的测量方法。通过本发明，可实现整体装置的模块化和紧凑化，灵活布置于卷到卷柔性膜输送设备的各个区域，并能够在张力测量的过程中实现薄膜进给速度的测量。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
25
records
(took 0.023 seconds)
