一种微纳空腔结构的成型方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119118053A

    公开(公告)日:2024-12-13

    申请号:CN202411280204.5

    申请日:2024-09-12

    Abstract: 本发明提出了一种微纳空腔结构的成型方法,属于微纳结构制造领域,在一待成型表面上通过激光直写技术成型出空腔结构,空腔结构表面上开设有若干通孔,通孔连通在腔体与外界环境之间;在空腔结构外表面上通过激光直写技术成型出封闭结构,封闭结构贴覆在空腔结构外表面上,封闭结构同时封闭若干通孔;通过先成型出带孔的空腔结构,再在空腔结构表面成型出封闭结构来盖住通孔,能够实现微纳空腔的高精度三维结构成型,这种成型方法使空腔的结构设计能够具有极高自由度,并大幅降低了空腔成型难度。

    基于激光表面图案化改性的电解池用质子交换膜及其制备方法、膜电极和电解池

    公开(公告)号:CN120006348A

    公开(公告)日:2025-05-16

    申请号:CN202510263437.2

    申请日:2025-03-06

    Abstract: 本发明涉及电解池技术领域,具体来说是基于激光表面图案化改性的电解池用质子交换膜及其制备方法、膜电极和电解池。本发明通过采用激光器发射激光,对电解池用质子交换膜表面进行图案化加工处理,得到基于激光表面图案化改性的电解池用质子交换膜。采用本发明方法获得的基于激光表面图案化改性的电解池用质子交换膜解决了商用电解池用质子交换膜与催化剂层二维接触问题,减小内部电阻,增加三相反应区,克服表面光滑致密的电解池用质子交换膜与催化剂层之间近似二维平面接触存在的技术缺陷。同时采用本发明基于激光表面图案化改性的电解池用质子交换膜先制得膜电极,然后采用膜电极制得电解池,对电解池进行应用。

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