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公开(公告)号：CN119246417A
公开(公告)日：2025-01-03
申请号：CN202411362288.7
申请日：2024-09-27
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种用于半导体暗场缺陷检测的傅里叶过滤器的设计方法，属于半导体缺陷检测领域，该方法基于傅里叶光学原理求解晶圆表面图案的空间频谱，通过空间频谱分布设计相应空间频谱遮挡针，对晶圆表面图样进行过滤处理，以有效抑制图案噪声，突出显示晶圆表面其他种类的缺陷疵病，辅助暗场检测系统完成有图形晶圆的缺陷检测；该方法适用于各种形状和尺寸的有图案晶圆，由于空间频谱分析具有唯一性，可对不同图案的晶圆需进行频谱分析与傅里叶滤波器设计；此外，可通过改变滤波器中用于进行带通的滤波针的位置、滤波针之间的间隔等参数达到所需调制波面的设计要求，具有一定的设计自由度。
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