公开(公告)号：CN107243697B

公开(公告)日：2019-11-12

申请号：CN201710579616.2

申请日：2017-07-17

Applicant: 北京理工大学

Inventor： 姜澜 ,  胡洁 ,  曹伟 ,  毛振威 ,  芦勇

IPC: B23K26/354 ,  B23K26/064 ,  C23C14/30 ,  C23C14/35 ,  C23C14/58

Abstract: 本发明涉及一种无掩膜的飞秒激光制造超疏水及抗反射表面的方法，属于疏水及抗反射材料制备领域。包括以下步骤：(1)利用电子束蒸发或者磁控溅射镀膜法在铜基底上镀上一层纳米厚度的膜；(2)利用飞秒激光直写方法，在镀上纳米厚度薄膜的铜基底上进行图案化，图案化的形状可以通过程序控制。(3)利用加热装置，对飞秒激光图案化的基底进行热氧化处理，制备出微纳复合结构。对比现有技术，本发明提供的制造超疏水及抗反射表面的方法，制造过程无需真空装置，无需光学掩膜，制造的基底形貌可控，具有超疏水、自清洁以及抗反射等性能。

公开(公告)号：CN107243697A

公开(公告)日：2017-10-13

申请号：CN201710579616.2

申请日：2017-07-17

Applicant: 北京理工大学

Inventor： 姜澜 ,  胡洁 ,  曹伟 ,  毛振威 ,  芦勇

IPC: B23K26/354 ,  B23K26/064 ,  C23C14/30 ,  C23C14/35 ,  C23C14/58

Abstract: 本发明涉及一种无掩膜的飞秒激光制造超疏水及抗反射表面的方法，属于疏水及抗反射材料制备领域。包括以下步骤：(1)利用电子束蒸发或者磁控溅射镀膜法在铜基底上镀上一层纳米厚度的膜；(2)利用飞秒激光直写方法，在镀上纳米厚度薄膜的铜基底上进行图案化，图案化的形状可以通过程序控制。(3)利用加热装置，对飞秒激光图案化的基底进行热氧化处理，制备出微纳复合结构。对比现有技术，本发明提供的制造超疏水及抗反射表面的方法，制造过程无需真空装置，无需光学掩膜，制造的基底形貌可控，具有超疏水、自清洁以及抗反射等性能。