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公开(公告)号:CN109269451A
公开(公告)日:2019-01-25
申请号:CN201811382725.6
申请日:2018-11-20
Applicant: 北京智芯微电子科技有限公司 , 国网信息通信产业集团有限公司
IPC: G01B15/02
Abstract: 本发明公开了一种金属镀层厚度的测量方法,所述测量方法是通过聚焦离子束测量方法结合扫描电子显微镜进行测量的,该测量方法能够实现对电子镀层、材料表面的涂层进行精确测量,精度在纳米级,能有效进行鉴别鉴伤。
公开(公告)号:CN109269451A
公开(公告)日:2019-01-25
申请号:CN201811382725.6
申请日:2018-11-20
Applicant: 北京智芯微电子科技有限公司 , 国网信息通信产业集团有限公司
IPC: G01B15/02
Abstract: 本发明公开了一种金属镀层厚度的测量方法,所述测量方法是通过聚焦离子束测量方法结合扫描电子显微镜进行测量的,该测量方法能够实现对电子镀层、材料表面的涂层进行精确测量,精度在纳米级,能有效进行鉴别鉴伤。