一种改善低成本可集成且大规模制备金属纳米颗粒方法

    公开(公告)号:CN114606466A

    公开(公告)日:2022-06-10

    申请号:CN202210173116.X

    申请日:2022-02-24

    Abstract: 本发明公开了一种改善低成本可集成且大规模制备金属纳米颗粒方法,第一步:在需要制备金属纳米结构的衬底上旋涂一层PMMA。并将PMMA烘干待用。第二步:准备合适尺寸的AAO膜将其在丙酮溶液中浸泡3min—5min直至其表面的PMMA溶解,用亲水处理后的硅片将其转移至清水中,再将其转移至旋涂了PMMA的衬底上并烘干。第三步:利用磁控溅射的方法将金属均匀溅射到AAO膜的孔洞中,溅射完成后将AAO膜清洗即可制得周期性的金属纳米结构。该方法制备工艺简单、成本较低,适合制备大面积的周期性金属纳米结构。

    外延集成介质膜DBR外腔面发射激光器

    公开(公告)号:CN112838474A

    公开(公告)日:2021-05-25

    申请号:CN202110058763.1

    申请日:2021-01-16

    Abstract: 本发明公开了外延集成介质膜DBR外腔面发射激光器,包括P型金属电极层、钝化层、周期交替生长的上分布式布拉格反射镜、高铝组分的氧化限制层、有源区、周期生长的下分布式布拉格反射镜、GaAs衬底层、N型金属电极层、电流限制氧化孔、相位匹配层、腔长匹配层、氧化硅氮化硅介质膜分布式布拉格反射镜和出光孔;本发明中采用生长相位匹配层、腔长匹配层的方法延长垂直腔面发射激光器的固有腔长,通过感应耦合等离子体增强气相沉积的方法外延氧化硅氮化硅介质膜分布式布拉格反射镜,达到控制光偏振的同时压窄线宽。本发明降低半导体激光器阈值,提高了器件的成品率。

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