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公开(公告)号：CN113845847A
公开(公告)日：2021-12-28
申请号：CN202110881798.5
申请日：2021-08-02
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 一种焙烧法制备镧铈固溶体抛光粉的方法属于可控晶型、可控粒径粉体制备领域。碳酸镧铈原料放入刚玉坩埚中，置入马弗炉中以2‑10℃/min的升温速率升温到400℃‑1050℃，而后保温2‑8小时，自然降至室温即得到镧铈固溶体抛光粉体。采用碳酸镧铈原料焙烧法制备镧铈固溶体，通过改变焙烧温度、升温速率、保温时间等因素制备可控晶型、可控粒径镧铈固溶体抛光粉的方法，其制备方法可操作性强，焙烧工艺简单，焙烧温度、保温时间、升温速率控制精确，可获得从原料碳酸镧铈到可控晶型、可控粒径的镧铈固溶体七氧化四铈Ce4O7抛光粉的不同工艺方法产品。
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公开(公告)号：CN113772713A
公开(公告)日：2021-12-10
申请号：CN202110991275.6
申请日：2021-08-26
Applicant: 北京工业大学
IPC: C01F17/265 , C09G1/02 , C01F17/10 , C01F17/235 , C01F17/259 , B82Y40/00
Abstract: 一种焙烧法制备氟化镧铈抛光粉的方法属于可控晶型、可控物相粉体制备领域。氟化稀土镧铈碳酸盐原料放入刚玉坩埚中，置入马弗炉中以2‑10℃/min的升温速率升温到400℃‑1050℃，而后保温2‑8小时，自然降至室温即得到氟化镧铈抛光粉体。采用氟化稀土镧铈碳酸盐原料焙烧法制备氟化镧铈抛光粉，通过改变焙烧温度、升温速率、保温时间等因素制备可控晶型、可控物相氟化镧铈抛光粉的方法，其制备方法可操作性强，焙烧工艺简单，焙烧温度、保温时间、升温速率控制精确，可获得从原料氟化稀土镧铈碳酸盐到可控晶型、可控物相的氟化镧铈抛光粉的不同工艺方法产品。
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公开(公告)号：CN107841371B
公开(公告)日：2020-09-25
申请号：CN201711084537.0
申请日：2017-11-07
Applicant: 北京工业大学
IPC: C10M173/02 , C10N30/04 , C10N30/06 , C10N30/12 , C10N30/18
Abstract: 一种全合成水晶切削液，属于切削液行业，特别是人造水晶切削液的生产技术领域。本发明所提供的切削液主要由清洗剂十二烷基苯磺酸钠、防腐剂三乙醇胺硼酸酯、润滑剂甘油、防锈剂三乙醇胺、消泡剂二甲基硅油及去离子水组成。本发明切削液呈碱性，主要由大量的纯水和多种超强功能助剂经科学复合配合而成，不含对人体有致癌作用的亚硝酸钠，具有在切削过程中始终保持pH值不变的功效，单组份直接使用，无毒无污染，适用于多种工艺的半自动、自动磨削生产线，工艺简单，操作方便，润滑性优，切削质量好，切削效率高，泡沫生成少，可以达到极好的表面光洁度。与国内外同类产品相比，用量少，寿命长，可以节约成本1/6‑1/8。
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公开(公告)号：CN102515241A
公开(公告)日：2012-06-27
申请号：CN201110434845.8
申请日：2011-12-22
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 一种W/O型微乳液制备纳米CeO2粒子的方法，属于纳米材料的制备领域。本发明步骤：微乳液区域的确定：由表面活性剂2-乙基己基膦酸单2-乙基己基酯，以下简称P507，油相磺化煤油，有机溶剂正庚烷及水相氢氧化钠溶液组成；乳化剂由表面活性剂P507和有机溶剂正庚烷组成；乳化剂∶磺化煤油∶氢氧化钠溶液中的NaOH三者质量比例范围为9.85～93.08∶2.39～88.67∶1.48～10.85；搅拌作用下将铈盐溶液加入到上述微乳液区域中，得到负载有机相；在负载有机相中加入沉淀剂草酸溶液得到前驱物；在250℃～750℃焙烧前驱物1.5～6.5h后所得到的粉末形貌为10～20nm的纳米CeO2球状颗粒。本发明制备出无明显颗粒团聚的、粒径分布均匀的纳米CeO2粒子。
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公开(公告)号：CN118064059A
公开(公告)日：2024-05-24
申请号：CN202410037772.6
申请日：2024-01-11
Applicant: 北京工业大学
IPC: C09G1/02
Abstract: 一种高世代液晶玻璃基板用铈基抛光浆料属于抛光材料的制备技术。抛光浆料由铈基抛光粉、外加助剂、去离子水组成，本发明所述的铈基抛光粉，包括质量百分数的如下成分：氧化铈CeO2为50‑60％，氧化镧La2O3为35‑40％，氟化物含量为5‑10％，氟化物含量中绝大部分为LaOF化合物，少量为LaF3化合物；所述铈基抛光粉磨料D50为0.7‑1.2μm。本发明解决国内高世代液晶玻璃基板抛光浆料易聚沉板结、悬浮性差、稳定周期短的不足，发挥国内铈基抛光粉资源丰富的优点，开发国内TFT玻璃抛光浆料的研制技术，打破TFT玻璃依赖进口的不利局面。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102557103B
公开(公告)日：2014-08-13
申请号：CN201110434124.7
申请日：2011-12-22
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 一种用微乳液制备纳米CeO2粒子的方法，属于纳米材料的制备领域。本发明步骤：微乳液区域的确定：微乳液由表面活性剂2-乙基己基膦酸单2-乙基己基酯，以下简称P507，油相磺化煤油，水相氢氧化钠溶液组成；其中P507∶磺化煤油∶氢氧化钠溶液中的NaOH三者质量比例范围为9.9～92.21∶4.72～89.11∶0.99～4.31；搅拌作用下将铈盐溶液加入到上述微乳液区域中，得到负载有机相；在负载有机相中加入沉淀剂草酸溶液得到前驱物；在250℃～750℃焙烧前驱物1.5～6.5h后所得到的粉末形貌为10～30nm的纳米CeO2球状颗粒。本发明制备出无明显颗粒团聚的、粒径分布均匀的纳米CeO2粒子。
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公开(公告)号：CN103553111A
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：CN201310518291.9
申请日：2013-10-28
Applicant: 北京工业大学
IPC: C01F17/00
Abstract: 本发明涉及一种微米粉体的制备方法，尤其是一种湿法球磨与低温干燥耦合法制备微米级CeO2的方法。其特征在于步骤如下：称取200g钢球，放入球磨罐中，然后根据球料质量比10:1～20:1的比例，称取碳酸铈粉末10-20g置于球磨罐中，再倒入50～70ml去离子水，将罐加满进行湿法球磨；设定球磨机电压为80～110V，球磨罐转速470～700r/min，球磨30min～360min；将球磨后的悬浮液浆料倒于坩埚中，放置于200℃的干燥箱内，干燥时间10min～6h，自干燥10min起每隔10min取样一次，直到6h为止；用XRD表征分析200℃低温干燥30min，40min，50min，60min，70min方法中发生的物相转变；得到不同干燥时间的产物，获得微米级氧化铈粉体的制备过程。
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公开(公告)号：CN102557103A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201110434124.7
申请日：2011-12-22
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 一种用微乳液制备纳米CeO2粒子的方法，属于纳米材料的制备领域。本发明步骤：微乳液区域的确定：微乳液由表面活性剂2-乙基己基膦酸单2-乙基己基酯，以下简称P507，油相磺化煤油，水相氢氧化钠溶液组成；其中P507∶磺化煤油∶氢氧化钠溶液中的NaOH三者质量比例范围为9.9～92.21∶4.72～89.11∶0.99～4.31；搅拌作用下将铈盐溶液加入到上述微乳液区域中，得到负载有机相；在负载有机相中加入沉淀剂草酸溶液得到前驱物；在250℃～750℃焙烧前驱物1.5～6.5h后所得到的粉末形貌为10～30nm的纳米CeO2球状颗粒。本发明制备出无明显颗粒团聚的、粒径分布均匀的纳米CeO2粒子。
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公开(公告)号：CN103880296B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201410025946.3
申请日：2014-01-20
Applicant: 北京工业大学
IPC: C03C15/02
Abstract: 一种软材质光学玻璃锆基抛光液，属于高档光学仪器加工领域。本发明所提供的抛光液主要由锆源磨料、红粉磨料、助磨剂、抗凝剂、pH值调节剂及去离子水组成。本发明抛光液呈酸性，具有抛光速度快，抛光效果好，抛光后的玻璃表面干净，光亮，对抛光玻璃表面不产生划伤，玻璃镜片表面不产生“阿拉比”现象，抛光后玻璃表面无斑点、污渍残留。本发明抛光液使用过程中操作性要求不高，抛光成本低，对环境无毒或低毒，绿色环保，不产生新污染，不造成过多的资源消耗，使用安全。本发明抛光液抛光效率高，其抛光率达95%以上，可用于代替进口ZOX－N氧化锆抛光液，成本仅为进口抛光液的1/3～1/5。
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公开(公告)号：CN101892132A
公开(公告)日：2010-11-24
申请号：CN201010237834.6
申请日：2010-07-23
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 一种太阳能硅片清洗剂，属于电子工业用清洗技术领域。本发明所提供的清洗剂主要由氢氧化钠、碳酸钠、硅酸钠、乙二胺四乙酸二钠、十二烷基苯磺酸钠、琥珀酸二辛酯磺酸钠、聚乙二醇、吐温-80、OP-10、三乙醇胺、无水乙醇或正丁醇或异丙醇或其组合物及去离子水组成。本发明清洗剂呈碱性，不含硫、磷添加剂，单组份使用，具有良好的去污、清洗性能，返片率低，使用周期长，对硅片无腐蚀性，使用过程中操作性要求不高，处理后的废油和污水容易处理，适用于多种工艺的手动、半自动及全自动超声波清洗生产线。其洗净效果可达99％以上，返片率几乎为0，成本仅为传统清洗工艺的1/10～1/20。
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