公开(公告)号：CN101892132B

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN201010237834.6

申请日：2010-07-23

Applicant: 北京工业大学

Inventor： 梅燕 ,  聂祚仁 ,  孙何

IPC: C11D1/83 ,  C11D3/20 ,  C11D3/30 ,  C11D3/04 ,  C11D3/60

Abstract: 一种太阳能硅片清洗剂，属于电子工业用清洗技术领域。本发明所提供的清洗剂主要由氢氧化钠、碳酸钠、硅酸钠、乙二胺四乙酸二钠、十二烷基苯磺酸钠、琥珀酸二辛酯磺酸钠、聚乙二醇、吐温-80、OP-10、三乙醇胺、无水乙醇或正丁醇或异丙醇或其组合物及去离子水组成。本发明清洗剂呈碱性，不含硫、磷添加剂，单组份使用，具有良好的去污、清洗性能，返片率低，使用周期长，对硅片无腐蚀性，使用过程中操作性要求不高，处理后的废油和污水容易处理，适用于多种工艺的手动、半自动及全自动超声波清洗生产线。其洗净效果可达99％以上，返片率几乎为0，成本仅为传统清洗工艺的1/10～1/20。

公开(公告)号：CN103880296A

公开(公告)日：2014-06-25

申请号：CN201410025946.3

申请日：2014-01-20

Applicant: 北京工业大学

Inventor： 梅燕 ,  聂祚仁 ,  王文琮 ,  孙何 ,  甘延玲

IPC: C03C15/02

Abstract: 一种软材质光学玻璃锆基抛光液，属于高档光学仪器加工领域。本发明所提供的抛光液主要由锆源磨料、红粉磨料、助磨剂、抗凝剂、pH值调节剂及去离子水组成。本发明抛光液呈酸性，具有抛光速度快，抛光效果好，抛光后的玻璃表面干净，光亮，对抛光玻璃表面不产生划伤，玻璃镜片表面不产生“阿拉比”现象，抛光后玻璃表面无斑点、污渍残留。本发明抛光液使用过程中操作性要求不高，抛光成本低，对环境无毒或低毒，绿色环保，不产生新污染，不造成过多的资源消耗，使用安全。本发明抛光液抛光效率高，其抛光率达95%以上，可用于代替进口ZOX－N氧化锆抛光液，成本仅为进口抛光液的1/3～1/5。

公开(公告)号：CN103880296B

公开(公告)日：2016-08-17

申请号：CN201410025946.3

申请日：2014-01-20

Applicant: 北京工业大学

Inventor： 梅燕 ,  聂祚仁 ,  王文琮 ,  孙何 ,  甘延玲

IPC: C03C15/02

Abstract: 一种软材质光学玻璃锆基抛光液，属于高档光学仪器加工领域。本发明所提供的抛光液主要由锆源磨料、红粉磨料、助磨剂、抗凝剂、pH值调节剂及去离子水组成。本发明抛光液呈酸性，具有抛光速度快，抛光效果好，抛光后的玻璃表面干净，光亮，对抛光玻璃表面不产生划伤，玻璃镜片表面不产生“阿拉比”现象，抛光后玻璃表面无斑点、污渍残留。本发明抛光液使用过程中操作性要求不高，抛光成本低，对环境无毒或低毒，绿色环保，不产生新污染，不造成过多的资源消耗，使用安全。本发明抛光液抛光效率高，其抛光率达95%以上，可用于代替进口ZOX－N氧化锆抛光液，成本仅为进口抛光液的1/3～1/5。

公开(公告)号：CN103194438A

公开(公告)日：2013-07-10

申请号：CN201310136497.5

申请日：2013-04-18

Applicant: 北京工业大学

Inventor： 聂祚仁 ,  孙何 ,  李群艳 ,  韦奇

IPC: C12N11/14

Abstract: 一种介孔碳/硅复合材料的制备方法属于纳米材料领域。本发明包括以下步骤：将F127溶解在乙醇和水形成的20℃~50℃的混合溶液中；再加入间苯二酚和正硅酸乙酯，通过加入盐酸使得溶液中HCl浓度在0.5M~2M之间，然后加入甲醛；反应体系中F127：乙醇：水：间苯二酚：正硅酸乙酯：甲醛的摩尔比为：0.01~0.03:20:20~50:1~4:0.5~2:1~5；溶液倾倒于培养皿中陈化，使样品分层，分层样品上层溶液倒掉，再将下层粘稠体系在100℃~160℃的烘箱中热聚合12~24h后在600℃~950℃焙烧1~5h，自然降温后所得样品。本发明工艺简单、操作方便、且重复性强。

公开(公告)号：CN101892132A

公开(公告)日：2010-11-24

申请号：CN201010237834.6

申请日：2010-07-23

Applicant: 北京工业大学

Inventor： 梅燕 ,  聂祚仁 ,  孙何

IPC: C11D1/83 ,  C11D3/20 ,  C11D3/30 ,  C11D3/04 ,  C11D3/60

Abstract: 一种太阳能硅片清洗剂，属于电子工业用清洗技术领域。本发明所提供的清洗剂主要由氢氧化钠、碳酸钠、硅酸钠、乙二胺四乙酸二钠、十二烷基苯磺酸钠、琥珀酸二辛酯磺酸钠、聚乙二醇、吐温-80、OP-10、三乙醇胺、无水乙醇或正丁醇或异丙醇或其组合物及去离子水组成。本发明清洗剂呈碱性，不含硫、磷添加剂，单组份使用，具有良好的去污、清洗性能，返片率低，使用周期长，对硅片无腐蚀性，使用过程中操作性要求不高，处理后的废油和污水容易处理，适用于多种工艺的手动、半自动及全自动超声波清洗生产线。其洗净效果可达99％以上，返片率几乎为0，成本仅为传统清洗工艺的1/10～1/20。