一种高能激光探测器及其制备方法

    公开(公告)号:CN118983353A

    公开(公告)日:2024-11-19

    申请号:CN202411052431.2

    申请日:2024-08-01

    Abstract: 一种高能激光探测器及其制备方法,涉及激光探测器领域。主体采用InGaAs为材料进行设计,包括沉积于衬底背部的薄膜周期结构,薄膜周期结构包括相互交替的Ta2O5层与SiO2层,利用不同折射率材料界面的反射作用,降低了1064nm高能激光的透过率,从而使InGaAs光电探测器具有1064nm高能激光的能力。并设计出针对1064nm、1315nm和1540nm三个波段激光的反射膜且进行了模拟,同样适用于此器件;还公开了高能激光探测器的制备方法,利用传统的微纳加工工艺进行高能激光探测器的制备,该制备方法工艺简单,适合大规模生产。

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